[发明专利]一种感光元件、指纹识别面板及制备方法、指纹识别装置有效
申请号: | 201610509763.8 | 申请日: | 2016-06-30 |
公开(公告)号: | CN105977314B | 公开(公告)日: | 2017-06-16 |
发明(设计)人: | 李昌峰;陈小川;王海生;刘英明;杨盛际;丁小梁;王鹏鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/105;H01L21/768;G06K9/00 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 感光 元件 指纹识别 面板 制备 方法 装置 | ||
1.一种感光元件的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
在衬底基板上形成第一电极;
在形成有所述第一电极的衬底基板上形成第一钝化层,在所述第一钝化层对应所述第一电极的位置通过构图工艺形成第一过孔;
在形成有所述第一过孔的衬底基板上通过构图工艺形成第一半导体层,且所述第一半导体层通过所述第一过孔与所述第一电极相连接;
在形成有所述第一半导体层的衬底基板上通过构图工艺形成本征半导体层,所述本征半导体层完全覆盖所述第一半导体层,并覆盖所述第一半导体层侧面的部分所述第一钝化层;
在形成有所述本征半导体层的衬底基板上通过构图工艺形成第二半导体层;
在形成有所述第二半导体层的衬底基板上通过构图工艺形成第二电极,所述第二电极完全覆盖所述第二半导体层的表面,且至少覆盖所述本征半导体层与所述第二半导体层的侧面。
2.根据权利要求1所述的感光元件的制备方法,其特征在于,还包括:在形成所述第二电极的衬底基板上形成第二钝化层。
3.一种指纹识别面板的制备方法,其特征在于,包括如权利要求1或2所述的感光元件的制备方法,所述指纹识别面板的制备方法还包括:
在衬底基板上形成第一信号线,所述第一信号线与第一电极相连接;
在衬底基板上形成第二信号线,所述第二信号线与第二电极相连接;
其中,所述第二电极的材料为透明导电材料,所述第一电极的材料为金属材料。
4.根据权利要求3所述的指纹识别面板的制备方法,其特征在于,还包括:
在所述衬底基板上通过一次构图工艺形成识别控制晶体管的栅极以及与所述栅极相连接的扫描信号线;
在形成有所述栅极和所述扫描信号线的所述衬底基板上,通过构图工艺形成所述识别控制晶体管的源极、漏极,所述源极与所述第一信号线相连接,所述漏极与所述第一电极相连接;
其中,所述第一信号线和所述扫描信号线交叉界定出多个阵列排布的指纹识别单元,每一个所述指纹识别单元包括所述感光元件以及所述识别控制晶体管。
5.根据权利要求4所述的指纹识别面板的制备方法,其特征在于,所述感光元件的面积与设置有所述感光元件的指纹识别单元的面积的比值为0.3至0.8。
6.根据权利要求4所述的指纹识别面板的制备方法,其特征在于,所述第一信号线、所述第一电极以及所述识别控制晶体管的源极、漏极采用一次构图工艺制得。
7.根据权利要求4所述的指纹识别面板的制备方法,其特征在于,所述第二信号线与所述识别控制晶体管的栅极采用一次构图工艺制得。
8.一种感光元件,包括衬底基板,其特征在于,所述感光元件还包括:
依次设置于所述衬底基板上的第一电极、第一钝化层、第一半导体层、本征半导体层、第二半导体层以及第二电极;
其中,所述第一钝化层对应所述第一电极的位置设置有第一过孔,所述第一半导体层通过所述第一过孔与所述第一电极相连接;
所述本征半导体层完全覆盖所述第一半导体层,并覆盖所述第一半导体层侧面的部分所述第一钝化层;
所述第二电极完全覆盖所述第二半导体层的表面,且至少覆盖所述本征半导体层与所述第二半导体层的侧面。
9.一种指纹识别面板,其特征在于,包括权利要求8所述的感光元件。
10.一种指纹识别装置,其特征在于,包括权利要求9所述的指纹识别面板。
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