[发明专利]制备头孢烯化合物的中间体及其晶体有效

专利信息
申请号: 201610518134.1 申请日: 2016-07-01
公开(公告)号: CN107556328B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 赵瑞;桑光明;张爱明;夏春光;张喜全;袁哲东;孔锐;郭晓鹏 申请(专利权)人: 正大天晴药业集团股份有限公司
主分类号: C07D501/24 分类号: C07D501/24;C07D501/04;C07D501/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 222062 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 制备 头孢 化合物 中间体 及其 晶体
【权利要求书】:

1.式(Ⅱ)化合物的晶体,使用Cu-Kα辐射,其在X-射线粉末衍射图谱中,在2θ度数约为7.08、11.00、14.14、17.10、19.10、21.96、23.36、23.66、24.22、25.34处有衍射峰,

2.根据权利要求1所述的晶体,在2θ度数约为7.08、11.00、14.14、16.44、17.10、19.10、21.96、22.14、23.36、23.66、24.22、25.34处有衍射峰。

3.式(Ⅱ)化合物的晶体,使用Cu-Kα辐射,其在X-射线粉末衍射图谱中,在2θ度数约为6.32、10.78、12.50、15.18、15.62、19.30、21.24、21.54、22.3处有衍射峰,

4.根据权利要求3所述的晶体,在2θ度数约为6.32、10.78、12.50、15.18、15.62、17.84、19.30、19.74、21.24、21.54、22.30处有衍射峰。

5.式(Ⅳ)化合物的制备方法,包括:式(Ⅱ)化合物的晶体与式(Ⅲ)化合物在有机溶剂存在下反应,其中A-为药学上可接受的阴离子,所述晶体为晶体A和/或晶体B,其中晶体A,使用Cu-Kα辐射,其在X-射线粉末衍射图谱中,在2θ度数约为7.08、11.00、14.14、17.10、19.10、21.96、23.36、23.66、24.22、25.34处有衍射峰,晶体B在2θ度数约为6.32、10.78、12.50、15.18、15.62、19.30、21.24、21.54、22.3处有衍射峰,

6.权利要求5的制备方法,其中A-为氯离子、溴离子、碘离子、硫酸根、硫酸氢根、甲苯磺酸根、甲磺酸根、三氟醋酸根或三氟甲磺酸根。

7.权利要求5的制备方法,其中晶体A在2θ度数约为7.08、11.00、14.14、16.44、17.10、19.10、21.96、22.14、23.36、23.66、24.22、25.34处有衍射峰。

8.权利要求5的制备方法,其中晶体B在2θ度数约为6.32、10.78、12.50、15.18、15.62、17.84、19.30、19.74、21.24、21.54、22.30处有衍射峰。

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