[发明专利]激光直接曝光设备及方法

权利要求书

1.一种激光直接曝光设备，其特征在于，所述激光直接曝光设备包括：

一机台，具有一台面，供放置一待曝光基板，其中该台面暴露于大气环境中；

一激光装置，设于该机台，用以输出激光束，以在该待曝光基板的表面进行扫描；以及

一减氧装置，与该激光装置同步，用以只对该激光装置的激光束正在扫描的区域持续地输出惰性的气体，以确保该待曝光基板的正在被扫描的区域是在减氧环境下进行曝光。

2.如权利要求1所述的激光直接曝光设备，其特征在于，该减氧装置包括：

一气体供应源，以提供该惰性的气体；

一腔体，其连接该气体供应源，且具有至少一进气口及一出气口；该腔体的进气口供该气体供应源的惰性的气体注入该腔体内；该腔体的出气口对着该待曝光基板的表面，以使该腔体内的惰性的气体得以吹向该待曝光基板的表面，建造该减氧环境。

3.如权利要求2所述的激光直接曝光设备，其特征在于，该激光装置的激光束也是从该腔体的出气口射出，而对该待曝光基板进行曝光。

4.如权利要求3所述的激光直接曝光设备，其特征在于，该腔体呈圆柱形，且该腔体与该激光装置的激光束同轴。

5.如权利要求1所述的激光直接曝光设备，其特征在于，该激光装置用以输出线形的激光。

6.如权利要求5所述的激光直接曝光设备，其特征在于，该减氧装置包括：

一气体供应源，用以提供该惰性的气体；及

一腔体，其连接该气体供应源，且具有至少一进气口及一出气口；该腔体的进气口供该气体供应源的惰性的气体注入该腔体内；该腔体的出气口正对着该待曝光基板的表面，以使该腔体内的惰性的气体得以吹向该待曝光基板的表面，建造该减氧环境。

7.如权利要求6所述的激光直接曝光设备，其特征在于，该激光装置包括间隔排列的多个激光二极管，多个该激光二极管所输出的多道激光共同形成该线形的激光；该减氧装置更包括一分流板，该分流板设于该腔体的出气口且具有多个导流孔，多个该导流孔分别对应多个该激光二极管，以使多个该激光二极管的多道激光得以分别从该分流板的导流孔射出，进而对该待曝光基板进行曝光。

8.如权利要求7所述的激光直接曝光设备，其特征在于，该减氧装置更包括一框体，该框体的底面压制于该分流板的周缘，以将该分流板固定于该腔体的出气口。

9.如权利要求5所述的激光直接曝光设备，其特征在于，该激光装置包括间隔排列的多个激光二极管，多个该激光二极管所输出的多道激光共同形成该线形的激光，该减氧装置包括：

一气体供应源，具有至少一气体管路，以供应该惰性的气体；

一腔体，具有一出气口及至少一进气口，该腔体的出气口设于该腔体的底部且正对着该待曝光基板的表面，该激光装置设于该腔体的顶部；

一框体，环设于该腔体的出气口，且具有至少一进气口；

一分流板，盖住该腔体的出气口，且具有多个导流孔，多个该导流孔分别对应多个该激光二极管，以使多个该激光二极管的多道激光得以分别从该分流板的导流孔射出，进而对该待曝光基板进行曝光；及

一透光板，罩设于该框体的顶面，且与该框体及该分流板共同形成一内室，其中多个该激光二极管的多道激光能够穿透该透光板进入该内室，并分别从该分流板的导流孔射出；

其中，该气体供应源的气体管路穿经该腔体的进气口以及该框体的进气口，以将该惰性的气体直接输送至该内室并从该分流板的多个该导流孔吹向该待曝光基板的表面，建造该减氧环境。

10.一种激光直接曝光方法，其特征在于，所述激光直接曝光方法包括下列步骤：

(a).将一涂有一层显像型液态防焊油墨的待曝光基板放置于大气环境中的一台面上；

(b).提供一激光装置及与该激光装置连动的一减氧装置，其中该减氧装置能够同步且持续地只对该激光装置的激光束正在扫描的区域输出惰性的气体，以将该正在扫描的区域所处的环境从该大气环境转变成一减氧环境；

(c).使该激光装置逐步地扫描该涂有防焊油墨的基板的各个区域，其中该激光装置的激光的波长介于350nm至410nm；以及

(d).在该激光装置扫描的过程中，同步使该减氧装置只对该激光装置正在扫描的区域持续地通入该惰性的气体，以确保该正被扫描的区域上的显像型液态防焊油墨是在该减氧环境被曝光。