[发明专利]处理装置有效

专利信息
申请号: 201610576185.X 申请日: 2013-03-08
公开(公告)号: CN106200277B 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 加藤正纪;木内彻 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 陈伟,孙明轩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种处理装置,沿长度方向传送长条且具有挠性的片状基板,同时将元件的图案转印至所述片状基板上,其特征在于,具有:

旋转圆筒体,具有距规定的轴线为固定半径的圆筒状的外周面,并通过所述外周面的一部分卷绕并保持所述片状基板的一部分,同时绕所述轴线旋转;

转印处理部,在保持所述片状基板的所述旋转圆筒体的外周面的特定的周向位置上,将所述图案转印至所述片状基板上;

刻度部,能够与所述旋转圆筒体一同绕所述轴线旋转,且具有从所述轴线沿着规定半径的外周面的周向排列为环状的能够读取的刻度;和

多个编码器读头部,配置在与所述刻度部的所述外周面相对的周围的2个以上的部位,以读取根据所述旋转圆筒体的旋转而沿周向移动的所述刻度,

多个所述编码器读头部中的、第1编码器读头部读取所述刻度的周向位置被设定为,所述转印处理部将所述图案转印至所述片状基板上的所述特定的周向位置,并且多个所述编码器读头部中的、第2编码器读头部读取所述刻度的周向位置被设定为,相对于所述特定的周向位置为90±5.8度的角度范围。

2.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,

所述处理装置具有对准系统,该对准系统在所述片状基板保持在所述旋转圆筒体上的状态下检测在所述片状基板上预先形成的标记,

基于所述对准系统的所述标记的检测区域关于所述旋转圆筒体的外周面的旋转移动方向,而设定在所述转印处理部的所述特定的周向位置的上游侧。

3.根据权利要求2所述的处理装置,其特征在于,

所述第2编码器读头部读取所述刻度的周向位置设定在所述转印处理部的所述特定的周向位置的上游侧,

以使所述标记检测区域的周向位置、与所述第2编码器读头部读取所述刻度的周向位置一致的方式,设置所述对准系统。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的处理装置,其特征在于,

所述转印处理部为以与所述图案对应的形状将光照射至所述片状基板上的光图案化装置、或者以与所述图案对应的形状喷出油墨液滴的油墨涂敷装置。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的处理装置,其特征在于,

所述旋转圆筒体的卷绕所述片状基板的一部分的所述外周面的直径与所述刻度部的所述刻度所排列的所述外周面的直径一致。

6.根据权利要求5所述的处理装置,其特征在于,

所述旋转圆筒体的所述外周面的半径与所述片状基板的厚度之和设定为,与所述刻度部的所述刻度所排列的所述外周面的半径一致。

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