[发明专利]可调平的版库设备

说明书

本发明提供了一种可调平的版库设备，包括版库结构、转轴结构和框架结构；所述版库结构安装于所述框架结构，进而能够通过所述框架结构被所述转轴结构调平，所述版库结构还能够相对于所述框架结构被调平。

技术领域

本发明涉及掩模传输领域，尤其涉及一种可调平的版库设备。

背景技术

光刻设备是一种将掩模版上的图案曝光成像到硅片或玻璃基板上的设备。为了提高生产效率、管理掩模版、以及完成与交换版手的交接，有些光刻设备除了外部版库外，还会使用专用的内部版库来存储一定数量的掩模版。

掩模传输系统的工作流程:将装有掩模版的版盒放入外部版库中，解锁机构进行解锁和条码扫描然后将其放入内部版库备用，机械手从内部版库中取出掩模版，送至与掩模台曝光。曝光后由掩模台交接与机械手，由机械手送回，把曝光好的掩模版放回内部版库。

从以上流程可以看出，一种结构和使用方法合理的掩模版存储设备不仅可以提高掩模传输的工作效率，而且还能提高传输精度，以及掩模版的洁净度，从而为光刻设备提供更可靠的掩模版。

请参考图1，现有掩模版存储设备是可升降的，版库固定在升降轴上，包括传动机构100，支撑架101和版库102。版库内有若干个槽并通过连接件在传动机构100的作用下沿着Z向运动。

但这种设计会产生几个问题：版库较重，导致传动机构的磨损并产生颗粒；开放的版库会造成掩模版表面的污染；掩模版有可能会产生凸版，不利于后续的取放；不能实现安全互锁。而且该结构为悬臂结构，承载较重，变形量会比较大，同时设计也会有一定的误差，为了能与接口顺利安装，因此需要进行Z向调节和第一次调水平。如果没有第一次调水平，整个版库设备水平度较差时，调水平比较费时。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是现有整个版库设备水平度较差时，调水平比较费时。

为了解决以上提到的问题，本发明提供了一种可调平的版库设备，包括版库结构、转轴结构和框架结构；所述版库结构安装于所述框架结构，进而能够通过所述框架结构被所述转轴结构调平，所述版库结构还能够相对于所述框架结构被调平。

可选的，所述的可调平的版库设备还包括密封结构，所述密封结构设于所述版库结构上，进而在关闭状态下，使得所述版库结构的对外开口处被密封。

可选的，所述密封结构包括结构主体、密封门、版库接口板和回推机构，所述结构主体通过所述版库接口板连接所述版库结构或框架结构，所述回推机构均安装于所述结构主体，所述密封门启闭于所述版库结构的对外开口处；所述回推机构被驱动控制所述密封门的启闭。

可选的，所述密封结构还包括互锁传感器，所述互锁传感器设于所述结构主体，用以检测机械手是否到达取版或放版的预设位置，所述回推机构被驱动参照所述互锁传感器的检测结果控制所述密封门的启闭。

可选的，所述转轴结构包括主转轴、调节机构、框架接口装置和万向轴承，所述主转轴的两端分别连接所述调节机构和万向轴承，所述主转轴还通过框架接口装置与所述框架结构固接，所述调节机构通过调整所述转轴的姿态位置实现所述框架结构及其上的版库结构的调平。

可选的，所述调节机构包括第一球面轴承、上轴承座、轴承座连接块、楔形块和调节螺钉，所述调节螺钉沿Z向连接所述楔形块，进而通过Z向的调节驱动所述楔形块沿X向调整，所述楔形块通过所述轴承座连接块连接所述上轴承座，所述上轴承座通过所述第一球面轴承连接于所述主转轴的一端，进而随着所述楔形块的X向调整相对所述第一球面轴承的内圈做RY方向的摆动。

可选的，所述调节机构还包括调整螺钉，所述调整螺钉沿Y向调整轴承座连接块与上轴承座之间的位置，进而使得所述上轴承座相对所述第一球面轴承的内圈做RX方向的摆动。