[发明专利]一种有机DAST晶体的表面研磨工艺方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机DAST晶体的表面处理方法，尤其是涉及一种有机DAST晶体的表面研磨工艺方法。

背景技术

有机光学DAST晶体（即4-N,N-二甲胺基-4’-N’-甲基-氮杂芪的对甲苯磺酸盐，英文名为4-N,N-dimethylamino-4’-N’-methyl-stilbazolium tosylate）属于有机吡啶盐类晶体，生长有机晶体一般采用溶液法进行。

DAST晶体是由阳离子基团（DAS）和阴离子基团（甲苯磺酸基）组成的离子晶体。在晶体生长过程中，晶体表面溶液过饱和度的波动会引起生长层的不一致，使得晶体表面呈现台阶形貌，直接影响晶体太赫兹发射性能。除此之外，由于受其他因素的影响，使得晶体表面不可避免地存在凹坑、位错等缺陷，当晶体表面存在缺陷、吸水或者晶体表面不平整时，会对光产生散射、折射和吸收，使得晶体的太赫兹发射效率低，失去了晶体的光学应用价值。

为了避免浪费，迫切需要对DAST晶体进行表面研磨处理，使晶体表面能够满足光学应用。

由于DAST晶体极易溶于有机溶剂和吸水的特性，传统的研磨液不能满足其研磨要求，因而迫切需要研制一项具有良好研磨效果的DAST表面研磨工艺。

发明内容

鉴于现有技术存在的问题和缺陷，本发明提供一种能够达到良好研磨效果的有机DAST晶体的表面研磨工艺方法。

本发明采取的技术方案是：一种有机DAST晶体的表面研磨工艺方法，其特征在于：该研磨工艺其方法流程为：

第一步：在5000#砂纸上进行DAST晶体表面粗磨，将DAST晶体表面磨平；

第二步：按体积比配制20%～80%乙酸乙酯和20%～80%无水乙醇混合的研磨液，将DAST晶体在无纺布材质的研磨垫上进行晶体研磨，以去除晶体表面不平整缺陷；

第三步：按体积比配制55%～85%乙酸乙酯和15%～45%无水乙醇混合的研磨液，将DAST晶体在无纺布材质的研磨垫上进行细磨，以去除研磨时的划痕，降低晶体表面粗糙度；

第四步：将DAST晶体置于分析纯的乙酸乙酯溶液中清洗，将晶体表面残留的研磨液和其它残留物清洗干净；

第五步：将DAST晶体置于50℃～80℃温度条件下，真空干燥5min～15min。

本发明的有益效果是：能够有效地去除DAST晶体表面的凹坑、生长台阶等宏观缺陷，降低了晶体的表面粗糙度，可得到具有较平整且易于后期加工的晶体表面。

具体实施方式

以下结合实施例对本发明进行详细说明。

实施例1：有机DAST晶体表面研磨工艺具体步骤如下：

①在5000#砂纸上进行DAST晶体表面粗磨；

②使用按体积比20%乙酸乙酯和80%无水乙醇配成的研磨溶液，在无纺布材质的研磨垫上进行研磨；

③使用按体积比85%乙酸乙酯和15%无水乙醇配成的研磨溶液，在无纺布材质的研磨垫上继续进行研磨；

④将DAST晶体置于乙酸乙酯溶液中进行清洗；

⑤在65℃温度条件下，将DAST晶体真空干燥10min。

⑥以上实验均在室温25℃±5℃，湿度20%～30%条件下进行。

实施例2：有机DAST晶体表面研磨工艺具体步骤如下：

①在5000#砂纸上进行DAST晶体表面粗磨；

②使用按体积比20%乙酸乙酯和80%无水乙醇配成的研磨溶液，在无纺布材质的研磨垫上进行研磨；

③使用按体积比65%乙酸乙酯和35%无水乙醇配成的研磨溶液，在无纺布材质的研磨垫上继续进行研磨；

④将DAST晶体置于乙酸乙酯溶液中进行清洗；

⑤在65℃温度条件下，将DAST晶体真空干燥10min。

⑥以上实验均在室温25℃±5℃，湿度20%～30%条件下进行。

实施例3：有机DAST晶体表面研磨工艺具体步骤如下：

①在5000#砂纸上进行DAST晶体表面粗磨；

②使用按体积比20%乙酸乙酯和80%无水乙醇配成的研磨溶液，在无纺布材质的研磨垫上进行研磨；

③使用按体积比55%乙酸乙酯和45%无水乙醇配成的研磨溶液，在无纺布材质的研磨垫上继续进行研磨；

④将DAST晶体置于乙酸乙酯溶液中进行清洗；

⑤在65℃温度条件下，将DAST晶体真空干燥10min。

⑥以上实验均在室温25℃±5℃，湿度20%～30%条件下进行。