[发明专利]光学成像系统有效

专利信息
申请号: 201610622769.6 申请日: 2016-08-02
公开(公告)号: CN106468821B 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 唐乃元;张永明 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 代理人: 肖鹂;王君
地址: 中国台湾中部科学工业*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 透镜 光学成像系统 负屈光力 光路调节 正屈光力 反曲点 非球面 屈光力 成像 收光 物侧 像侧
【权利要求书】:

1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依次包括:

第一透镜,具有正屈光力;

第二透镜,具有负屈光力;

第三透镜,具有正屈光力;

第四透镜,具有正屈光力;

第五透镜,具有负屈光力;

第六透镜,具有负屈光力;以及

成像面;

其中所述光学成像系统具有屈光力的透镜为六枚,所述光学成像系统在所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,并且所述第六透镜的物侧表面及像侧表面都为非球面,所述第一透镜至所述第六透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4、f5、f6,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面与光轴的交点至所述成像面与光轴的交点间具有距离HOS,所述光学成像系统的最大视角的一半为HAF,所述第一透镜至所述第六透镜在1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6,前述ETP1至ETP6的总和为SETP,所述第一透镜至所述第六透镜在光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4、TP5以及TP6,前述TP1至TP6的总和为STP,其满足下列条件:1.8≤f/HEP≤2.0;0.8390≤│tan(HAF)│≤1.0004;以及0.5≤SETP/STP<1。

2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜物侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,所述第一透镜物侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述第六透镜像侧面上在1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.2≤EIN/ETL<1。

3.如权利要求2所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜至所述第六透镜在1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6,前述ETP1至ETP6的总和为SETP,其满足下列公式:0.3≤SETP/EIN<1。

4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统包括滤光元件,所述滤光元件位于所述第六透镜以及所述成像面之间,所述第六透镜像侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述滤光元件间平行于光轴的距离为EIR,所述第六透镜像侧面上与光轴的交点至所述滤光元件间平行于光轴的距离为PIR,其满足下列公式:0.1≤EIR/PIR≤1.1。

5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜至所述第六透镜中至少一个透镜的物侧面或像侧面具有至少一个反曲点。

6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统在所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,可见光在所述成像面上的光轴、0.3HOI以及0.7HOI三处在空间频率55cycles/mm的调制转换对比转移率分别以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示,其满足下列条件:MTFE0≥0.2;MTFE3≥0.01;以及MTFE7≥0.01。

7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第六透镜像侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,所述第六透镜像侧面上与光轴的交点至所述成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≤EBL/BL≤1.1。

8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统还包括光圈,在所述光轴上所述光圈至所述成像面具有距离InS,所述光学成像系统设有图像感测元件在所述成像面,所述光学成像系统在所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,所述第一透镜物侧面与光轴的交点至所述成像面与光轴的交点间具有距离HOS,所述第一透镜至所述第六透镜中至少一个透镜的至少一个表面具有至少一个反曲点,所述反曲点与光轴间的垂直距离为HIF,则满足下列公式:0.1≤InS/HOS≤1.1;以及0≤HIF/HOI≤0.9。

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