[发明专利]光学成像系统有效
申请号: | 201610622769.6 | 申请日: | 2016-08-02 |
公开(公告)号: | CN106468821B | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 唐乃元;张永明 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 | 代理人: | 肖鹂;王君 |
地址: | 中国台湾中部科学工业*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 光学成像系统 负屈光力 光路调节 正屈光力 反曲点 非球面 屈光力 成像 收光 物侧 像侧 | ||
本发明公开一种光学成像系统,由物侧至像侧依次包括第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜以及第六透镜。第一透镜至第五透镜中至少一个透镜具有正屈光力。第六透镜可具有负屈光力,其两表面都为非球面,其中第六透镜的至少一个表面具有反曲点。光学成像系统中具屈光力的透镜为第一透镜至第六透镜。当满足特定条件时,可具备更大的收光以及更佳的光路调节能力,以提高成像质量。
技术领域
本发明涉及一种光学成像系统,且更具体地,涉及一种应用于电子产品上的小型化光学成像系统。
背景技术
近年来,随着具有摄影功能的便携式电子产品的兴起,光学系统的需求日渐提高。一般光学系统的感光元件不外乎是感光耦合元件(Charge Coupled Device;CCD)或互补性氧化金属半导体元(Complementary Metal-Oxide Semiconductor Sensor;CMOS Sensor)两种,且随着半导体制作工艺的精进,使得感光元件的像素尺寸缩小,光学系统逐渐往高像素领域发展,因此对成像质量的要求也日益增加。
传统搭载在便携式装置上的光学系统,多采用四片或五片式透镜结构为主,然而由于便携式装置不断朝提高像素并且终端消费者对大光圈的需求例如微光与夜拍功能,现有的光学成像系统已无法满足更高阶的摄影要求。
发明内容
因此,本发明实施例的目的在于,提供一种技术,能够有效增加光学成像系统的进光量,并进一步提高成像的质量。
本发明实施例相关的透镜参数的用语与其符号详列如下,作为后续描述的参考:
与长度或高度有关的透镜参数
光学成像系统的最大成像高度以HOI表示;光学成像系统的高度以HOS表示;光学成像系统的第一透镜物侧面至第六透镜像侧面间的距离以InTL表示;光学成像系统的固定光阑(光圈)至成像面间的距离以InS表示;光学成像系统的第一透镜与第二透镜间的距离以IN12表示(例示);光学成像系统的第一透镜在光轴上的厚度以TP1表示(例示)。
与材料有关的透镜参数
光学成像系统的第一透镜的色散系数以NA1表示(例示);第一透镜的折射律以Nd1表示(例示)。
与视角有关的透镜参数
视角以AF表示;视角的一半以HAF表示;主光线角度以MRA表示。
与出入瞳有关的透镜参数
光学成像系统的入射瞳直径以HEP表示;单一透镜的任一表面的最大有效半径是指系统最大视角入射光通过入射瞳最边缘的光线在该透镜表面交会点(Effective HalfDiameter;EHD),该交会点与光轴之间的垂直高度。例如第一透镜物侧面的最大有效半径以EHD11表示,第一透镜像侧面的最大有效半径以EHD12表示。第二透镜物侧面的最大有效半径以EHD21表示,第二透镜像侧面的最大有效半径以EHD22表示。光学成像系统中其余透镜的任一表面的最大有效半径表示方式以此类推。
与透镜面形深度有关的参数
第六透镜物侧面在光轴上的交点至第六透镜物侧面的最大有效半径的终点为止,前述两点间水平在光轴的距离以InRS61表示(最大有效半径深度);第六透镜像侧面在光轴上的交点至第六透镜像侧面的最大有效半径的终点为止,前述两点间水平在光轴的距离以InRS62表示(最大有效半径深度)。其他透镜物侧面或像侧面的最大有效半径的深度(沉陷量)表示方式比照前述。
与透镜面型有关的参数
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