[发明专利]光学膜生产用刀模垫有效
| 申请号： | 201610656276.4 | 申请日： | 2016-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN106279944B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 李彦 | 申请（专利权）人： | 苏州柯创电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C08L23/08 | 分类号： | C08L23/08;C08L53/02;C08L67/02;C08K9/06;C08K3/26;C08K3/34;C08J9/10;C09J175/04;C09J11/06;B32B27/36;B32B27/08;B32B27/32;B32B27/30 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 韩飞 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学膜生产 上表层 下表层 刀模 芯层 冲压 聚氨酯胶粘剂 质量百分比 发泡助剂 胶粒原料 无机粒子 持久性 发泡剂 填充剂 膜垫 模具 反弹 保证 | ||
1.一种光学膜生产用刀模垫，包括上表层、芯层和下表层，所述芯层设置在所述上表层和下表层之间，其特征在于，
所述上表层包括EVA胶粒原料、发泡剂、填充剂、发泡助剂；
所述芯层包括聚氨酯胶粘剂；
所述下表层包括如下质量百分比的组分：90～95％的PET，5～10％的无机粒子；
所述EVA胶粒原料为乙烯醋酸乙烯酯EVA，聚烯烃弹性体POE和热塑性弹性体SEBS的混合物；
所述乙烯醋酸乙烯酯EVA，聚烯烃弹性体POE和热塑性弹性体SEBS的质量比为(50～60)：(30～45)：(5～10)；
所述填充剂为重量份比为3～5:7～5的轻质碳酸镁粉和滑石粉的混合物，所述混合物经过硅烷偶联剂表面处理，所述填充剂的用量为EVA胶粒原料重量的10～15％。
2.如权利要求1所述的光学膜生产用刀模垫，其特征在于，所述发泡剂为偶氮二甲酰胺，其用量为EVA胶粒原料重量的5～10％。
3.如权利要求1所述的光学膜生产用刀模垫，其特征在于，所述发泡助剂为氧化锌，其用量为EVA胶粒原料重量的0.5～1.5％。
4.如权利要求1所述的光学膜生产用刀模垫，其特征在于，所述聚氨酯胶粘剂包括如下重量份的组分：聚氨酯预聚物20～60份，邻苯二甲酸二辛脂8～15份，氨基硅烷偶联剂1～5份，胺类催化剂2～4份。
5.如权利要求1所述的光学膜生产用刀模垫，其特征在于，所述上表层的厚度为100～2000μm，所述芯层的厚度为200～400μm，所述下表层的厚度为10～100μm。
6.如权利要求1所述的光学膜生产用刀模垫，其特征在于，所述上表层还包括着色剂。
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