[发明专利]光学膜生产用刀模垫

说明书

本发明公开了一种光学膜生产用到膜垫，包括上表层、芯层和下表层，所述芯层设置在所述上表层和下表层之间，所述上表层包括EVA胶粒原料、发泡剂、填充剂、发泡助剂；所述芯层包括聚氨酯胶粘剂；所述下表层包括如下质量百分比的组分：90～95％的PET，5～10％的无机粒子。本发明提供一种光学膜生产用刀模垫，该刀模垫反弹的效果好，冲压寿命越长，能保证模具的耐用持久性，冲压时起到效果更佳。

技术领域

本发明涉及一种刀模垫。更具体地说，本发明涉及一种光学膜生产用刀模垫。

背景技术

在LCD生产行业，需用大量的如偏光膜、扩散膜，增亮膜等光学薄膜，而在光学膜的裁切成型过程中，刀模垫是必不可少的。刀模垫的主要作用是反弹，就是使模切模具上的材料不至于嵌入到模具的底板上，在把材料切开后能迅速的离开模具，不至于将材料带起来，另一个作用就是在压切瞬间对材料有一个固定作用，特别是冲压狭窄间距，刀锋和刀锋之间近距离的时候，在模切高速的冲压下，材料不能被快速反弹出来，不能完全复位，模切出来的材料就会有白边和折痕的现象。

目前，传统的刀模垫是采用泡沫材料，容易撕破，且影响模切，使得产品容易起毛边不光滑，模具容易损刀锋，切出来的产品有些断有些不断的现象。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种光学膜生产用刀模垫，该刀模垫反弹的效果好，冲压寿命越长，能保证模具的耐用持久性，冲压时起到效果更佳。

为了实现根据本发明的这些目的和其它优点，提供了一种光学膜生产用刀模垫，包括上表层、芯层和下表层，所述芯层设置在所述上表层和下表层之间，所述上表层包括EVA胶粒原料、发泡剂、填充剂、发泡助剂；所述芯层包括聚氨酯胶粘剂；所述下表层包括如下质量百分比的组分：90～95％的PET，5～10％的无机粒子。

优选的是，所述EVA胶粒原料为乙烯醋酸乙烯酯EVA，聚烯烃弹性体POE和热塑性弹性体SEBS的混合物。

优选的是，所述乙烯醋酸乙烯酯EVA，聚烯烃弹性体POE和热塑性弹性体SEBS的质量比为(50～60)：(30～45)：(5～10)。

优选的是，所述发泡剂为偶氮二甲酰胺，其用量为EVA胶粒原料重量的5～10％。

优选的是，所述填充剂为重量份比为3～5:7～5的轻质碳酸镁粉和滑石粉的混合物，所述混合物经过硅烷偶联剂表面处理，所述填充剂的用量为EVA胶粒原料重量的10～15％。

优选的是，所述发泡助剂为氧化锌，其用量为EVA胶粒原料重量的0.5～1.5％。

优选的是，所述聚氨酯胶粘剂包括如下重量份的组分：聚氨酯预聚物20～60份，邻苯二甲酸二辛脂8～15份，氨基硅烷偶联剂1～5份，胺类催化剂2～4份。

优选的是，所述上表层的厚度为100～2000μm，所述芯层的厚度为200～400μm，所述下表层的厚度为10～100μm。

优选的是，所述上表层还包括着色剂。

本发明至少包括以下有益效果：本发明提供了一种光学膜生产用刀模垫，包括依次接触的上表层，芯层和下表层，所述刀模垫解决了现有技术刀模垫容易被撕破的问题，且刀模垫反弹的效果好，冲压寿命越长，能保证模具的耐用持久性，冲压时起到效果更佳；通过在刀模垫的上表层添加着色剂，可以方便的区分刀模垫和光学膜，通过开发滑石粉和轻质碳酸镁复配配方，降低填充剂的比重，提高了填充量，改善了成型加工性能，提高上表层的耐磨性，抗曲性和抗拉强度，通过偶联剂加助偶联剂的复合表面改性剂配方的滑石粉与树脂的相容性好；通过在上表层中加入热塑性弹性体SEBS增强了上表层的柔性和弹性。本发明的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本发明的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。

附图说明

图1为本发明的一个结构示意图。