[发明专利]基因测序反应小室及基因测序反应装置

权利要求书

1.一种基因测序反应小室，其特征在于：包括相贴合上层基片和下层基片，所述上层基片与下层基片之间形成用于进行基因测序反应的反应通道；所述上层基片上设置有与反应通道相连通的试剂入口和试剂出口；

所述上层基片上设置有用于对反应通道进行加热的加热涂层，所述反应通道投影在上层基片的区域称为投影区域，所述的加热涂层覆盖在所述的投影区域上；

所述加热涂层沿试剂入口与试剂出口的连线方向的两端分别为第一端和第二端；所述加热涂层还包括第一弯折部和第二弯折部，所述第一弯折部与所述的第一端相连接，所述第二弯折部与所述第二端相连接；

所述第一弯折部上具有第一电接触点，所述第二弯折部上具有第二电接触点，所述第一电接触点和第二电接触点用于实现加热涂层的通电。

2.根据权利要求1所述的一种基因测序反应小室，其特征在于：所述下层基片的上表面设置有凹槽，所述上层基片与下层基片贴合后，所述凹槽的内壁与上层基片的下表面围合形成所述的反应通道；所述试剂入口和试剂出口均与所述的凹槽相连通。

3.根据权利要求1或2所述的一种基因测序反应小室，其特征在于：所述加热涂层为ITO涂层。

4.一种基因测序反应装置，包括如权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：还包括小室安装板、固定座以及转动架；所述基因测序反应小室固定在所述小室安装板上，且所述小室安装板固定在所述的固定座上；所述转动架转动安装在固定座上。

5.根据权利要求4所述的一种基因测序反应装置，其特征在于：所述转动架上设置有朝向基因测序反应小室的方向转动后接触第一电接触点的第一加热电极以及接触第二电接触点的第二加热电极。

6.根据权利要求4或5所述的一种基因测序反应装置，其特征在于：所述转动架上还固定设置有入口连接管和出口连接管，所述转动架朝向基因测序反应小室的方向转动后，所述的入口连接管与所述的试剂入口相连通，所述的出口连接管与所述的试剂出口相连通。

7.根据权利要求4或5所述的一种基因测序反应装置，其特征在于：所述转动架上还固定设置有温度传感器，所述转动架朝向基因测序反应小室的方向转动后，所述温度传感器贴合在所述的加热涂层上。

8.根据权利要求4所述的一种基因测序反应装置，其特征在于：所述小室安装板的两端设置有限位凸块，所述基因测序反应小室置于两限位凸块之间。

9.根据权利要求8所述的一种基因测序反应装置，其特征在于：所述小室安装板上还设置有定位凸块，所述基因测序反应小室的侧边抵靠在所述的定位凸块上。