[发明专利]基因测序反应小室及基因测序反应装置

说明书

技术领域

本发明涉及生化设备技术领域，更具体的说，本发明涉及一种基因测序反应小室及基因测序反应装置。

背景技术

现有技术基因测序反应装置通常包括基因测序反应小室和温度控制装置，所述温度控制装置一般包括有加热片和导电棒，导电棒与加热片电性连接，加热片贴在基因测序反应小室，通过加热片对基因测序反应小室的反应通道进行加热。

这种类型的基因测序反应小室，加热片与基因测序反应小室相贴合，导电棒与加热片的外表面接触，但由于导电棒与加热片的接触点位置的限制，使得加热片对基因测序反应小室加热时的温度均匀性较差，其中反应通道的中心区域与靠近试剂入口（或试剂出口）的区域的温度相差较大，影响测序反应的进行，降低测序反应的效率。另外，由于加热片为独立的结构，在基因测序反应小室安装时需要单独对加热片进行安装，使得基因测序反应小室的安装过程十分的繁琐。

因此需要一种新的加热的均匀性更佳、便于安装和拆卸的基因测序反应小室。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基因测序反应小室，旨在解决现有技术中基因测序反应小室加热的均匀性差的问题。

为了实现发明目的，一种基因测序反应小室，其改进之处在于：包括相贴合上层基片和下层基片，所述上层基片与下层基片之间形成用于进行基因测序反应的反应通道；所述上层基片上设置有与反应通道相连通的试剂入口和试剂出口；

所述上层基片上设置有用于对反应通道进行加热的加热涂层，所述反应通道投影在上层基片的区域称为投影区域，所述的加热涂层覆盖在所述的投影区域上；

所述加热涂层沿试剂入口与试剂出口的连线方向的两端分别为第一端和第二端；所述加热涂层还包括第一弯折部和第二弯折部，所述第一弯折部与所述的第一端相连接，所述第二弯折部与所述第二端相连接；

所述第一弯折部上具有第一电接触点，所述第二弯折部上具有第二电接触点，所述第一电接触点和第二电接触点用于实现加热涂层的通电。

进一步的，所述下层基片的上表面设置有凹槽，所述上层基片与下层基片贴合后，所述凹槽的内壁与上层基片的下表面围合形成所述的反应通道；所述试剂入口和试剂出口均与所述的凹槽相连通。

进一步的，所述加热涂层为ITO涂层。

本发明还提供了一种基因测序反应装置，包括上述的基因测序反应小室，其改进之处在于：还包括小室安装板、固定座以及转动架；所述基因测序反应小室固定在所述小室安装板上，且所述小室安装板固定在所述的固定座上；所述转动架转动安装在固定座上。

在上述的结构中，所述转动架上设置有朝向基因测序反应小室的方向转动后接触第一电接触点的第一加热电极以及接触第二电接触点的第二加热电极。

进一步的，所述转动架上还固定设置有入口连接管和出口连接管，所述转动架朝向基因测序反应小室的方向转动后，所述的入口连接管与所述的试剂入口相连通，所述的出口连接管与所述的试剂出口相连通。

进一步的，所述转动架上还固定设置有温度传感器，所述转动架朝向基因测序反应小室的方向转动后，所述温度传感器贴合在所述的加热涂层上。

在上述的结构中，所述小室安装板的两端设置有限位凸块，所述基因测序反应小室置于两限位凸块之间。

进一步的，所述小室安装板上还设置有定位凸块，所述基因测序反应小室的侧边抵靠在所述的定位凸块上。

由上可知，本发明的基因测序反应小室，由于加热涂层的第一端和第二端之间的电流均匀，在加热涂层的第一端和第二端之间则形成均匀的加热区域，该加热区域的温度的均匀性更佳，使得反应通道中每个位置的温度相等，保证了测序反应的顺利进行，提高了测序反应的效率；另外，本发明的基因测序反应装置，通过转动架结构的设计，将入口连接管、第一加热电极、第二加热电极、温度传感器以及出口连接管均集中安装在转动架上，其结构紧凑，避免相互之间的干扰，同时也避免了基因测序反应小室、入口连接管以及出口连接管繁琐的安装，节省了基因测序反应的时间。

附图说明

图1为本发明一个实施例中基因测序反应小室的结构示意图。

图2为本发明一个实施例中基因测序反应小室的爆炸结构示意图。

图3为本发明一个实施例中基因测序反应小室的俯视结构示意图。

图4为本发明另一个实施例中基因测序反应小室的爆炸结构示意图。

图5为本发明一个实施例中基因测序反应小室和小室安装板的结构示意图。