[发明专利]一种应用于太阳能电池提升开压的两步通源工艺有效
申请号: | 201610797372.0 | 申请日: | 2016-08-31 |
公开(公告)号: | CN106340567B | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 董方;张向斌;宋飞飞 | 申请(专利权)人: | 横店集团东磁股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/223 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 322118 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 太阳能电池 提升 两步通源 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及单晶电池片的扩散处理工艺,更具体地说,它涉及一种应用于太阳能电池提升开压的两步通源工艺。
背景技术
提高太阳电池的光电转换效率一直是光伏研究的首要方向。而扩散制PN结是制备太阳电池的关键步骤,它决定了硅片的表面浓度、结深和有效掺杂量,是影响电池电性能的重要因素之一。目前,制备太阳电池PN结的常规方法为先恒定源扩散再限定源扩散的两步磷扩散工艺。该模式所形成的磷杂质分布特征为:横向电阻一定时,表面掺杂浓度与体掺杂量反相关。由此产生的直接后果是对填充因子和开路电压的优化会相互制约,使对通过调整掺杂量改善电池片整体电性能的研究遇到瓶颈。扩散不均匀会直接影响电池电性能参数的正态分布,导致电池低效率比例的增加,对于做发射极高方阻扩散工艺的电池而言,扩散不均匀对电池性能的影响将会更严重。扩散的均匀性直接体现在硅片扩散后PN结结深的差异性上,均匀性好则结深的差异性小,反之亦然,而不同的结深对应的烧结温度也是不一样的。换个角度来说,同样的烧结条件对于扩散均匀性好的电池片,其欧姆接触就会好,短路电流、填充因子等电性能参数也会比较稳定。这样,电池片的转换效率也就更稳定,并且,电池片与电池片之间的电性能参数一致性好,因此提高扩散的均匀性就显得非常有必要。在相关研究及应用中,通常以方块电阻的大小作为衡量扩散程度的标准,P原子在高温条件下扩散系数较大,传统扩散是在高温下扩散并推进,这导致方阻的均匀性较差,要使均匀性有所改善就需要在低温条件下扩散,但由于低温下大部分的P原子未能激活导致表面死层增加,复合中心增多,少子寿命减小,因此有必要进一步完善工艺消除上述矛盾,提高单晶电池片的工作性能。
发明内容
现有的单晶电池片扩散处理工艺是在高温下扩散并推进,P原子扩散系数较大,导致方阻的均匀性较差,为克服这一缺陷,本发明提供了一种应用于太阳能电池提升开压的两步通源工艺,采用低温扩散+分步升温推进的扩散方案,在减少表面死层,提高少子寿命的同时,改善方阻均匀性,从而提升Uoc,提高光电转换效率。
本发明的技术方案是:一种应用于太阳能电池提升开压的两步通源工艺,用于单晶电池片的扩散处理工序,包括下列步骤:
步骤一.单晶电池片低温沉积:此步骤中采用相对较低的沉积步温度及相对低浓度的POCL3,沉积温度748-752℃,沉积时间9min-11min;
步骤二.二步沉积:升温至800℃-810℃,进行相对高浓度的POCL3二步沉积,沉积保持3min-4min,再升温至850℃-870℃,保持10min-16min高温推进;
步骤三.三步降温吸杂出炉:按810℃→800℃→750℃三个阶段逐步降温,每个阶段分别用400s降温通氧氧化,氧气流量为4000sccm;步骤四.对扩散完成的单晶电池片进行方阻测试。
本发明基于扩散工艺中主要工艺因素对掺杂分布的影响,及初始扩散条件与最终所得电池片性能参数间的关系,设计并优化得出较佳的两步扩散工艺,该工艺可减少死层、增加电活性磷掺杂量,并能通过适当调整第二次恒定源扩散工艺参数实现对开压的独立控制,从而实现对电池整体电性能的改善,提升单晶硅电池片开压从而提升转换效率。采用该技术方案,方阻可控制在87-97Ω,扩散后硅片表面方块电阻一致性好,STD值≤6,单晶电池片Uoc提升1.5mV-2mV,光电转换效率可以提升0.06%以上。
作为优选,所用POCL3的纯度为99.9999%或更高。使用纯度99.9999%以上的POCL3可提供更理想的工艺条件,减少不利因素对工艺实施过程的干扰,确保工艺实施结果的准确性。
作为优选,步骤一中POCL3流量为900-1000sccm。相对低温条件下,POCL3流量控制在这一范围内,使得POCL3处于低浓度,P原子的扩散程度和表面死层的控制之间达到较好的平衡。
作为优选,步骤二中POCL3流量为1600-1700sccm。相对高温条件下,POCL3流量比控制在这一范围内,使得POCL3处于高浓度,使扩散形成一个高浓度的浅PN结。
作为优选,所用氧气的纯度为99.5%或更高。使用纯度99.5%以上的氧气可提供更理想的工艺条件,减少不利因素对工艺实施过程的干扰,确保工艺实施结果的准确性。
本发明的有益效果是:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的