[发明专利]二硫化钨纳米管的制备方法在审

专利信息
申请号: 201610808191.3 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN107792882A 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 陈友虎;秦禄昌;田天;李云朋;王元斐 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C01G41/00 分类号: C01G41/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32256 代理人: 王锋
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 硫化 纳米 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明具体涉及一种二硫化钨纳米管及其制备方法,属于材料科学领域。

背景技术

纳米管具有独特的几何结构以及物理特性,使得其成为纳米尺寸科学研究领域的一大课题。其中一维纳米管具有许多优于其相应块体材料的性能。近年来,非碳无机纳米管也同样得到了广泛的关注及研究。非碳无机纳米管主要为过渡金属硫属化合物,例如WS2、MoS2、NiCl2、TiS2、VS2、SnS2等。

但是,相较于单元素的碳纳米管,过渡金属硫属纳米管的合成比较困难,由于每个壁均由三个原子层组成(具体为一个金属层夹杂在两个硫属层之间),需要相当大的应变能以实现表面弯曲,不同于碳纳米管的单原子层。目前,二硫化钨纳米管主要是通过硫化氧化钨纳米颗粒而得到。也有报道称,利用硫化床可以实现WS2纳米管的量产然而,这些方法制得的纳米管管壁比较厚,直径比较大。另外,还有研究人员利用高功率等离子切除技术加工多壁WS2纳米管上而制得了单壁至三壁的WS2纳米管,此方法尽管可以获得少壁及直径较小的WS2纳米管,但对设备要求比较高,且耗能较高。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种二硫化钨纳米管的制备方法,以克服现有技术中的不足。

为实现前述发明目的,本发明采用的技术方案包括:

本发明实施例提供了一种二硫化钨纳米管的制备方法,其包括:

提供超细W18O49纳米线;

以及,将所述超细W18O49纳米线置于生长设备内,并使呈现为气态的硫源与所述超细W18O49纳米线在还原性气氛中接触且于700℃~950℃反应,制得所述二硫化钨纳米管。

在一些实施方案中,所述的制备方法包括:

将固态硫源和超细W18O49纳米线分别置于生长设备内的第一温区和第二温区,所述第一温区和第二温区沿载气在生长设备内的行进方向依次分布;

至少驱除所述生长设备内的氧气和水,并使第一温区和第二温区的温度分别升高至150℃~350℃及700℃~950℃,同时向所述生长设备内持续通入载气,使硫源与超细W18O49纳米线在还原性气氛中接触并反应,从而制得所述二硫化钨纳米管。

前述固态硫源包括硫粉,但不限于此。

在一些实施方案中,所述的制备方法也可包括:

将超细W18O49纳米线置于生长设备内;

至少驱除所述生长设备内的氧气和水,并使所述超细W18O49纳米线的温度升高至700℃~950℃,同时向所述生长设备内持续通入载气及气态硫源,使硫源与超细W18O49纳米线在还原性气氛中接触并反应,从而制得所述二硫化钨纳米管。

前述气态硫源包括硫化氢,但不限于此。

较之现有技术,本发明利用改进的热处理方法制得了少壁且直径较小的WS2纳米管,对设备要求较低,能耗较少,且操作简单,所获WS2纳米管具有更佳应用前景,例如,能更好地应用于制备固体纳米润滑剂。

附图说明

图1是本发明实施例1中制得的W18O49纳米线粉末的XRD图;

图2是本发明实施例1中制得的W18O49纳米线粉末在低倍率下的透射电子显微像,其中插图为圆环形区域的选取电子衍射图;

图3是本发明实施例1中制得的W18O49纳米线粉末的高分辨透射电子显微图,其中插图为方框形区域的FFT图;

图4是本发明实施例1中制得的单壁二硫化钨纳米管的高分辨透射电子显微像,其中插图为方框形区域的FFT图;

图5是本发明实施例1中制得的双壁二硫化钨纳米管的高分辨透射电子显微像;

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