[发明专利]激光加工系统

说明书

提供一种激光加工系统。该激光加工系统具备：激光振荡器；激光光路，其将激光从激光振荡器的激光射出口引导至工件；杂质气体吸附剂，其吸附对激光的传播产生影响的杂质气体；以及开闭门，其将杂质气体吸附剂曝露在激光光路内。

技术领域

本发明涉及一种具备将从激光振荡器射出的激光引导至被加工物的激光光路的激光加工系统。

背景技术

当使激光散射或吸收激光那样的杂质气体存在于激光振荡器的周边时，对激光的传播产生大的影响。因此，在搭载有激光振荡器的以往的激光加工系统中，设置有具有将激光从激光振荡器的光射出口引导至加工点的光学系统的激光光路。而且，通过使这种激光光路内充满不会对激光的传播造成影响的纯净的吹扫气体，来使激光加工稳定。

并且，日本专利第4335154号公报公开了以下发明：在上述的以往的激光加工系统中，在激光光路内设置探测杂质气体的气体传感器，来判定在激光光路内是否混入了杂质气体。

而且，在日本专利第4335154号公报所公开的发明中，在如前所述的杂质气体混入到激光光路内的情况下，使以氮为主要成分的富氮气体、氮气等纯净的吹扫气体流入到激光光路内并从激光光路内排出。另外，在日本专利第4335154号公报中，作为如前所述的杂质气体，公开了二氧化碳、乙醇或氨等有机溶剂类的气体。

然而，根据专利第4335154号公报所公开的发明，利用吹扫气体来使乙醇等有机溶剂类的杂质气体的浓度下降到能够进行激光加工的浓度所需要的时间比杂质气体为二氧化碳的情况下的该时间长。推测其原因是由于前述的有机溶剂类的杂质气体与激光光路内的壁面发生伪化学键合。换言之，日本专利第4335154号公报所公开的发明存在如下问题：在激光光路内混入了乙醇等有机溶剂类的杂质气体的情况下，难以尽快地将该杂质气体从激光光路排出。

发明内容

本发明提供一种在激光光路内混入了对激光的传播产生影响的气体的情况下能够尽快地将该气体从激光光路排出的激光加工系统。

根据本发明的第一方式，提供一种激光加工系统，其具备：

激光振荡器，其振荡出激光；

激光光路，其将激光从激光振荡器引导至被加工物；

杂质气体吸附剂，其吸附对激光的传播产生影响的杂质气体；以及

曝露功能部，其将杂质气体吸附剂曝露在激光光路内。

根据本发明的第二方式，提供一种第一方式的激光加工系统，其中，

该激光加工系统还具备吹扫气体供给线，该吹扫气体供给线用于向激光光路内供给吹扫气体。

根据本发明的第三方式，提供一种第一方式或第二方式的激光加工系统，其中，

该激光加工系统还具备杂质气体混入探测装置，该杂质气体混入探测装置探测激光光路内是否混入了杂质气体。

根据本发明的第四方式，提供一种第三方式的激光加工系统，其中，

在由杂质气体混入探测装置探测到激光光路内混入了杂质气体时，由曝露功能部将杂质气体吸附剂曝露在激光光路内。

根据本发明的第五方式，提供一种第三方式或第四方式的激光加工系统，其中，

杂质气体混入探测装置具有探测杂质气体的至少一个气体传感器。

根据本发明的第六方式，提供一种第三方式或第四方式的激光加工系统，其中，

杂质气体混入探测装置具有麦克风，该麦克风收集激光在激光光路内传播时的声音来探测激光光路内是否混入了杂质气体。

根据本发明的第七方式，提供一种第三方式或第四方式的激光加工系统，其中，