[发明专利]一种柔性器件的基板结构及其柔性器件和显示面板

说明书

本发明涉及一种柔性器件的基板结构及其柔性器件和显示面板。本发明的柔性器件的基板结构中，在柔性基板与缓冲层之间增设一个有机光阻层，利用该有机光阻层所具有的平坦化效果来改善柔性基板表面的异物对缓冲层的影响以及对TFT层的器件的影响；缓冲层与TFT层的接触面不发生变化，保证TFT器件的正常功能，提高柔性器件产品的良率。

技术领域

本发明涉及一种柔性器件的基板结构及其柔性器件和显示面板。

背景技术

现有的柔性器件在制造的过程中一般会先制作形成具有其柔性基板结构的中间产品，例如薄膜晶体管(TFT)阵列的柔性基板结构、OLED的柔性基板结构、AMOLED的柔性基板结构，通常如图1所示，包括在刚性基板1(例如玻璃基板)上依次层叠设置的柔性基板层2(例如PI膜层)、缓冲层3和TFT器件层4。

其中，依照目前的制造工艺，PI膜层2的表面或内部容易残留大颗的异物，尤其是其表面的大颗凸起异物容易穿破缓冲层3，从而影响到TFT器件层4。按照现行的工艺，缓冲层3一般采用叠层结构，其主要功能是为了能够阻隔水汽和电离子，然而对于PI膜层2的大颗异物无法有效阻隔，因此无法有效保护TFT器件层4的结构。

需要一种新的柔性基板结构，能够减少因PI膜层的大颗异物造成的TFT器件层的损伤，达到提高柔性基板产品的良率的目的。

发明内容

鉴于现有技术的上述问题和/或其他问题，本发明一方面提供了一种柔性器件的基板结构，至少包括依次层叠设置的刚性基板、柔性基板、缓冲层和薄膜晶体管层，其中，所述基板结构还包括有机光阻层，所述有机光阻层形成于所述柔性基板和所述缓冲层之间。

优选的，所述柔性基板为聚酰亚胺薄膜。

优选的，所述柔性基板的厚度为10μm～30μm。

优选的，所述有机光阻层为有机光刻胶层。

优选的，所述有机光阻层的厚度为1μm～3μm。

优选的，所述缓冲层具有数层叠合的叠层结构。

优选的，所述刚性基板为玻璃基板。

本发明另一方面提供了一种柔性器件，其采用上述的基板结构。

优选的，所述柔性器件可以为薄膜晶体管阵列柔性器件、OLED柔性器件或者AMOLED柔性器件。

本发明再一方面提供了一种显示面板，所述显示面板采用上述的柔性器件。

本发明的柔性器件的基板结构中，在柔性基板与缓冲层之间增设一个有机光阻层，利用该有机光阻层所具有的平坦化效果来改善柔性基板膜层表面的异物对缓冲层的影响以及对TFT层的器件的影响；缓冲层与TFT层的接触面不发生变化，保证TFT器件的正常功能，提高柔性器件产品的良率。

附图说明

图1为现有技术的柔性器件的基板结构的剖视示意图；

图2为本发明实施例1的基板结构的剖视示意图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。