[发明专利]吸盘装置以及元件转移方法有效
申请号: | 201610839842.5 | 申请日: | 2016-09-22 |
公开(公告)号: | CN107856041B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 陈铭如;吴建德 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司 |
主分类号: | B25J15/00 | 分类号: | B25J15/00;H05K13/02 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马雯雯;臧建明 |
地址: | 中国台湾桃园市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吸盘 装置 以及 元件 转移 方法 | ||
1.一种吸盘装置,用以吸取至少一元件,其特征在于,包括:
静电吸盘;以及
图案化导电层,配置于所述静电吸盘上,具有暴露出部分所述静电吸盘的至少一开口,其中当所述静电吸盘通电时,经由所述至少一开口暴露出来的所述静电吸盘诱发所述至少一元件与其之间产生偶极-偶极力,使得所述至少一元件经由所述至少一开口被吸附于部分所述静电吸盘上,所述图案化导电层会遮蔽被其覆盖的所述静电吸盘的区域。
2.根据权利要求1所述的吸盘装置,其特征在于,所述静电吸盘包括至少一个正电极、至少一个负电极以及围绕所述至少一个正电极与所述至少一个负电极的绝缘层。
3.根据权利要求2所述的吸盘装置,其特征在于,所述至少一个正电极包括多个正电极,所述至少一个负电极包括多个负电极。
4.根据权利要求1所述的吸盘装置,其特征在于,还包括释放层,配置于所述静电吸盘与所述图案化导电层之间。
5.根据权利要求1所述的吸盘装置,其特征在于,所述图案化导电层的厚度介于1μm至5μm。
6.根据权利要求1所述的吸盘装置,其特征在于,所述图案化导电层具有栅状结构。
7.根据权利要求1所述的吸盘装置,其特征在于,所述至少一开口包括多个开口。
8.根据权利要求7所述的吸盘装置,其特征在于,所述至少一元件包括多个元件,以及所述多个元件分别经由所述多个开口被吸附于部分所述静电吸盘上。
9.一种元件的转移方法,其特征在于,包括:
施加电压至如权利要求1-8中任一项所述的吸盘装置的所述静电吸盘;
使所述吸盘装置接近位于第一位置处的至少一元件,其中所述至少一元件经由所述至少一开口被吸附于部分所述静电吸盘上;
将已吸附有所述至少一元件的所述吸盘装置由所述第一位置移动至第二位置;以及
于第二位置处移除施加于所述吸盘装置上的电压,使得所述至少一元件自所述吸盘装置上脱离而由所述第一位置吸取至所述第二位置。
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