[发明专利]抗反射涂料组成物及抗反射膜

权利要求书

1.一种抗反射涂料组成物，其特征在于，包括：

0.7重量份至2重量份的二氧化硅微粒子；

0.1重量份至1.1重量份的硅酸盐化合物；

0.05重量份至20重量份的水；

79重量份至99重量份的有机溶剂；以及

阴离子，

其中在所述抗反射涂料组成物中，所述阴离子的浓度范围为大于85.1ppm至小于132.4ppm。

2.根据权利要求1所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，所述二氧化硅微粒子至少包括由式(I)所示的烷氧基硅烷于碱性催化剂存在下经水解缩合反应而得的化合物：

R_n-Si(OR1)_4-n 式(I)，

其中在式(I)中，R为C1～C10的经取代或非经取代的烷基、C2～C10的经取代或非经取代的烯基或C6～C10的经取代或非经取代的芳基，R1为C1～C10的经取代或非经取代的烷基，n为0～2的整数。

3.根据权利要求2所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，所述碱性催化剂为选自由金属氢氧化物、氨水、烷胺类、醇胺类、氯化苄基三乙基铵及氢氧化四甲基铵所组成的族群中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，所述硅酸盐化合物至少包括由式(I)所示的烷氧基硅烷于酸性催化剂存在下经水解缩合反应而得的化合物：

R_n-Si(OR1)_4-n 式(I)，

其中在式(I)中，R为C1～C10的经取代或非经取代的烷基、C2～C10的经取代或非经取代的烯基或C6～C10的经取代或非经取代的芳基，R1为C1～C10的经取代或非经取代的烷基，n为0～2的整数。

5.根据权利要求4所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，所述酸性催化剂为选自由盐酸、硝酸、氢氟酸、乙酸、三氟醋酸、硫酸、磷酸、硼酸、甲酸、乙酸、草酸、对甲苯磺酸及烷基磺酸所组成的族群中的至少一种。

6.根据权利要求2或4所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，当n为0时，式(I)所示的烷氧基硅烷包括四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷或四丁氧基硅烷；当n为1时，式(I)所示的烷氧基硅烷包括甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三苯氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或苯基三甲氧基硅烷；当n为2时，式(I)所示的烷氧基硅烷包括二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二异丙基二甲氧基硅烷、二异丁基二甲氧基硅烷、环己基甲基二甲氧基硅烷、γ-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷或γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷。

7.根据权利要求2所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，在式(I)中，n为0或1。

8.根据权利要求1所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，所述二氧化硅微粒子与所述硅酸盐化合物的含量比例为5：5至7：3。

9.根据权利要求1所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，所述阴离子为选自由氯离子、硝酸根离子、氟离子、乙酸根离子、三氟醋酸根离子、硫酸根离子、磷酸根离子、硼酸根离子、甲酸根离子、草酸根离子、对甲苯磺酸根离子及烷基磺酸根离子所组成的族群中的至少一种。

10.一种抗反射涂料组成物，其特征在于，包括：

0.7重量份至2重量份的二氧化硅微粒子；

0.1重量份至1.1重量份的硅酸盐化合物；

0.05重量份至20重量份的水；

79重量份至99重量份的有机溶剂；以及

阴离子，

其中在所述抗反射涂料组成物中，所述阴离子的摩尔浓度范围为大于2.13mM至小于3.32mM。

11.根据权利要求10所述的抗反射涂料组成物，其特征在于，所述二氧化硅微粒子与所述硅酸盐化合物的含量比例为5：5至7：3。