[发明专利]束电流密度分布调整装置和离子注入机

说明书

本发明涉及束电流密度分布调整装置和离子注入机。提供了一种束电流密度分布调整装置。该装置包括在带状束的长侧方向上的构件对，所述构件对通过使用电场或磁场来调整在带状束的长侧方向上的束电流密度分布，所述构件对中的每一个构件对的构件被布置成使得带状束在所述构件中间。在带状束的长侧方向上彼此相邻的构件对的相对表面部分地不平行于带状束的行进方向。

技术领域

本公开涉及一种束电流密度分布调整装置和一种包括所述束电流密度分布调整装置的离子注入机，所述束电流密度分布调整装置使带状束局部偏转以在束的长侧方向上调整束电流密度分布。

背景技术

使用电场或磁场来调整在带状束的长侧方向上的束电流密度分布的装置是已知的。

使用电场的装置的示例可以包括日本专利特开申请No.2014-183042中举例说明的装置。在这些装置中，多个电极对沿着带状束的长侧方向布置。每一个电极对的电极相对地布置，且带状束在它们之间。为了使束成分局部偏转以调整在带状束的长侧方向上的束电流密度分布，调整将施加到布置在带状速的长侧方向上的相应的电极对的电压。

使用磁场的装置的示例可以包括日本专利特开申请No.2005-327713中举例说明的装置。在该装置中，多个磁极对沿着带状束的长侧方向布置。每一个磁极对的磁极相对地布置，且带状束在它们之间。以线圈缠绕每个磁极。为了使束成分局部偏转以调整在带状束的长侧方向上的束电流密度分布，调整在带状束的短侧方向上的缠绕磁极对的彼此相对的相应磁极的线圈的电流。

此外，作为使用磁场的装置的示例，在国际专利申请No.2005-533353的国家公布中举例说明的装置也是已知的。在这些装置，多个线圈缠绕具有开口的矩形状轭，带状束经过所述开口。为了使束成分局部偏转以调整在带状束的长侧方向上的束电流密度分布，流经缠绕轭的相对长轴中的一个的多个线圈的电流方向与另一个轴的电流方向相反，并且调整相应的线圈的电流。

发明内容

根据一个或多个示例性实施例的一方面，提供了一种束电流密度分布调整装置，所述束电流密度分布调整装置包括：在带状束的长侧方向上的多个构件对，所述构件对通过使用电场或磁场来调整在所述带状束的长侧方向上的束电流密度分布，所述构件对中的每一对被布置成使得所述带状束在所述构件对中间，其中在所述带状束的长侧方向上彼此相邻的构件对的相对表面至少部分地不平行于所述带状束的行进方向。

根据一个或多个示例性实施例的另一个方面，提供了一种离子注入机，所述离子注入机包括：离子源，所述离子源被构造成产生带状束；束电流密度分布调整装置，所述束电流密度分布调整装置包括在所述带状束的长侧方向上的多个构件对，所述构件对通过使用电场或磁场来调整在所述带状束的长侧方向上的束电流密度分布，构件对中的每一对被布置成使得所述带状束在所述构件对中间；以及处理室，在所述处理室中布置有晶圆，其中在所述带状束的长侧方向上彼此相邻的构件对的相对表面至少部分地不平行于所述带状束的行进方向。

根据一个或多个示例性实施例的又一个方面，提供了一种束调整装置，所述束调整装置包括：第一构件和第二构件，所述第一构件和第二构件布置在带状束的相对侧；以及第三构件和第四构件，所述第三构件和第四构件布置在所述带状束的相对侧，所述第三构件在所述带状束的长方向上与所述第一构件相邻，并且所述第四构件在所述长方向上与所述第二构件相邻，其中所述第一构件至所述第四构件中的每一个构件具有在所述带状束的行进方向上延伸的表面，所述行进方向与所述长方向正交，并且所述第一构件的表面的至少一部分不平行于所述行进方向。

附图说明

图1A和图1B示出根据示例性实施例的束电流密度分布调整装置，其中图1A是装置的透视图，以及图1B是以放大方式示出由图1A中的虚线包围的部分的平面图；