[发明专利]阵列基板及其制造方法、OLED结构有效

专利信息
申请号: 201610865955.2 申请日: 2016-09-30
公开(公告)号: CN107887328B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 孟哲宇 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 oled 结构
【说明书】:

发明揭示了一种阵列基板及其制造方法、OLED结构。在本发明提供的阵列基板及其制造方法、OLED结构中,通过使得电容结构的第一电极层和第二电极层为多孔石墨烯材质,增大了电容密度,减小电容区面积,便于增大布线空间,能够更好地实现高PPI;通过使得第二电极层和栅极金属层构成双栅结构,降低了漏电流,有利于提高阵列基板的质量。

技术领域

本发明涉及显示领域,特别是涉及一种阵列基板及其制造方法、OLED结构。

背景技术

随着信息社会的发展,人们对显示设备的需求日益增长。柔性显示器以其轻薄、可弯折甚至卷曲、机械性能好的特点越来越受到人们的青睐。目前,柔性显示器在生活中的应用越来越广泛。柔性显示器包括柔性液晶显示器(LCD)和柔性有机发光二极管显示器(OLED)。柔性显示器通常制作在柔性载体上,由于柔性显示器其本身特有的可弯曲的特点,决定了它会有很多特殊的用户体验,也给其设计和制作带来了很大的挑战。

目前,高PPI的柔性显示器已经成为发展的必然趋势,这要求每个像素的尺寸越来越小,像素电路的布线空间也越小,然而在像素电路中电容占据空间最大,不利于获得高PPI。因此,如何在确保电容值的情况下,减小电容所占空间(也即减小即电容区面积),成为一个重要的研究方向。

发明内容

本发明的目的在于,提供一种阵列基板及其制造方法、OLED结构,减小电容区面积,实现高PPI柔性显示。

本发明的另一目的在于,实现高PPI柔性显示的同时,降低漏电流。

本发明的又一目的在于,通过采用整面的电源电压走线,降低压降。

为解决上述技术问题,本发明提供一种阵列基板的制造方法,包括:

提供一基底;

在所述基底上依次形成第一电极层、第一介质层和第二电极层,获得电容结构,所述第一电极层和第二电极层均由多孔石墨烯制成;以及

在所述第二电极层上依次形成第二介质层、多晶硅层、第三介质层及栅极金属层。

可选的,对于所述的阵列基板的制造方法,获得电容结构的步骤包括:

采用化学气相沉积工艺形成第一石墨烯材料层;

光刻刻蚀所述第一石墨烯材料层,并采用激光照射,形成所述第一电极层;

在所述第一电极层周围形成第二绝缘层,所述第二绝缘层与所述第一电极层上表面齐平;

采用化学气相沉积工艺形成第一介质层;

采用化学气相沉积工艺在所述第一介质层上形成第二石墨烯材料层;

光刻刻蚀所述第一石墨烯材料层,并采用激光照射,形成所述第二电极层。

可选的,对于所述的阵列基板的制造方法,所述第一介质层的材料为聚酰亚胺,厚度为5μm~10μm。

可选的,对于所述的阵列基板的制造方法,在提供一基底之后、获得电容结构之前,还包括:

在所述基底上形成一层整面的第一金属层作为电源电压走线;

在所述第一金属层上形成第一绝缘层。

可选的,对于所述的阵列基板的制造方法,所述第一金属层的材质为钼,厚度为

可选的,对于所述的阵列基板的制造方法,所述绝缘层中形成有开口,所述第一电极层填充所述开口并与所述第一金属层相连接。

可选的,对于所述的阵列基板的制造方法,在所述第二电极层上依次形成第二介质层、多晶硅层、第三介质层及栅极金属层的步骤包括:

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