[发明专利]形成导电图案的方法以及制造包括其的显示装置的方法

权利要求书

1.一种形成导电图案的方法，所述方法包括以下步骤：

在基底上形成用于形成所述导电图案的导电材料层；

在所述导电材料层上形成光敏有机材料层；

通过半色调掩模照射所述光敏有机材料层，所述半色调掩模包括第一掩模区域、第二掩模区域和第三掩模区域，所述第一掩模区域具有与所述导电图案的边缘对应的边界，所述第三掩模区域设置在所述第一掩模区域与所述第二掩模区域之间；

通过去除所述光敏有机材料层来形成包括第一区域和第二区域的第一图案，所述第一区域与所述第一掩模区域对应并且具有第一厚度，所述第二区域与所述第三掩模区域对应并且具有比所述第一厚度小的第二厚度；

使用所述第一图案作为硬掩模来蚀刻所述导电材料层，并形成所述导电图案，所述导电图案布置在所述第一图案的下方并具有暴露的侧表面；以及

通过对所述第一图案回流来形成覆盖所述导电图案的所述侧表面的第二图案，

其中，所述导电图案具有暴露的区域，所述暴露的区域的上表面未覆盖有所述第二图案；

所述半色调掩模还包括第四掩模区域，所述第四掩模区域在所述第一掩模区域内与所述导电图案的所述暴露的区域对应；

所述第一图案还包括第三区域，所述第三区域具有比所述第一厚度小的第三厚度并且在所述第一区域内与所述第四掩模区域对应，

其中，蚀刻所述导电材料层的步骤包括暴露所述第一图案的所述第二区域的下表面的一部分，

其中，所述导电图案的所述边缘相对于所述第一图案的边缘缩进，

其中，所述导电图案的所述边缘与所述第一图案的所述边缘之间的距离大于等于0.7μm且小于等于2μm。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第三掩模区域沿所述第一掩模区域的所述边界设置并且围绕所述第一掩模区域。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，去除所述光敏有机材料层的步骤包括：完全地去除所述光敏有机材料层的与所述第二掩模区域对应的第一部分，部分地去除所述光敏有机材料层的与所述第三掩模区域对应的第二部分。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述第二图案的步骤包括：通过使所述第一图案的一部分沿所述导电图案的所述侧表面流动来覆盖所述导电图案的所述侧表面。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第三区域的平均厚度比所述第二区域的平均厚度小。

6.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括对所述第一图案灰化，使得暴露所述导电图案的所述暴露的区域的所述上表面。