[发明专利]遮光静电薄膜及其制作工艺

权利要求书

1.一种遮光静电薄膜，包括透明基材，所述透明基材上设置有聚氯乙烯薄膜，所述聚氯乙烯薄膜上设置有透明聚对苯二甲酸乙二醇酯膜；其特征在于：所述遮光静电薄膜的制作工艺包括以下步骤：

(1)透明基材与聚氯乙烯薄膜成型复合；

(2)对成型复合好的材料进行无胶静电处理；

(3)无胶静电处理好的材料与透明聚对苯二甲酸乙二醇酯膜复合成型；

(4)复合成型好的成品通过分切和成型即可得到所述遮光静电薄膜；

其中：所述聚氯乙烯薄膜通过配料、混合、熔融挤出和压延成型得到；所述聚氯乙烯薄膜的组成包括25～35wt％的环保增塑剂、2.0～10.0wt％的钛白粉、1.0～5.0wt％的色料、1.0～5.0wt％的稳定剂，和45～70wt％的聚氯乙烯；所述环保增塑剂由环氧硬脂酸2-乙基己酯、氨基萘二磺酸和环氧大豆油酸2-乙基己酯组成，其中，所述环氧硬脂酸2-乙基己酯的含量为12～15wt％，所述氨基萘二磺酸的含量为2.0～5.0wt％，环氧大豆油酸2-乙基己酯为余量；

所述稳定剂为镁铝碱式碳酸型水滑石，并且所述镁铝碱式碳酸型水滑石经过煅烧处理，所述煅烧处理的气氛为0.05～0.10MPa的CO₂和0.01～0.05MPa的水蒸气，煅烧温度为180～250℃；

所述透明基材选自选自聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚偏二氟乙烯树脂、聚苯烯酰胺树脂、聚乙烯醇树脂或聚酰亚胺树脂中的一种。

2.根据权利要求1所述的遮光静电薄膜，其特征在于：所述色料包括氧化铁红、氧化铁黄、氧化铁黑、炭黑、钴蓝、耐晒黄10G、永固黄FGL或永固橙RN中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的遮光静电薄膜，其特征在于：所述聚氯乙烯薄膜的组成还包括1.0～1.5wt％的氨基硅烷偶联剂，和0.8～1.2wt％的1，3，5-苯三甲酰氯。

4.一种遮光静电薄膜的制作工艺，其特征在于包括以下步骤：

(1)透明基材与聚氯乙烯薄膜成型复合；

(2)对成型复合好的材料进行无胶静电处理；

(3)无胶静电处理好的材料与透明聚对苯二甲酸乙二醇酯膜复合成型；

(4)复合成型好的成品通过分切和成型即可得到所述遮光静电薄膜；

其中：所述聚氯乙烯薄膜通过配料、混合、熔融挤出和压延成型得到；所述聚氯乙烯薄膜的组成包括25～35wt％的环保增塑剂、2.0～10.0wt％的钛白粉、1.0～5.0wt％的色料、1.0～5.0wt％的稳定剂，和45～70wt％的聚氯乙烯；所述环保增塑剂由环氧硬脂酸2-乙基己酯、氨基萘二磺酸和环氧大豆油酸2-乙基己酯组成，其中，所述环氧硬脂酸2-乙基己酯的含量为12～15wt％，所述氨基萘二磺酸的含量为2.0～5.0wt％，环氧大豆油酸2-乙基己酯为余量；

所述稳定剂为镁铝碱式碳酸型水滑石，并且所述镁铝碱式碳酸型水滑石经过煅烧处理，所述煅烧处理的气氛为0.05～0.10MPa的CO₂和0.01～0.05MPa的水蒸气，煅烧温度为180～250℃；

所述透明基材选自选自聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚偏二氟乙烯树脂、聚苯烯酰胺树脂、聚乙烯醇树脂或聚酰亚胺树脂中的一种。

5.根据权利要求4所述的遮光静电薄膜的制作工艺，其特征在于：所述色料包括氧化铁红、氧化铁黄、氧化铁黑、炭黑、钴蓝、耐晒黄10G、永固黄FGL或永固橙RN中的至少一种。

6.根据权利要求4所述的遮光静电薄膜的制作工艺，其特征在于：所述聚氯乙烯薄膜的组成还包括1.0～1.5wt％的氨基硅烷偶联剂，和0.8～1.2wt％的1，3，5-苯三甲酰氯。