[发明专利]粒子光学系统及布置与用于该系统及布置的粒子光学组件有效

专利信息
申请号: 201610905526.3 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN107104029B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: D.蔡德勒;T.凯曼;P.安格;A.卡萨里斯;C.里德赛尔 申请(专利权)人: 以色列实用材料有限公司;卡尔蔡司显微镜有限责任公司
主分类号: H01J37/09 分类号: H01J37/09;H01J37/21;H01J37/28;H01J37/317;B82Y10/00;B82Y40/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 以色列*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 粒子 光学系统 布置 用于 系统 光学 组件
【说明书】:

本发明涉及一种带电粒子多小波束系统,其包含带电粒子源(301);具有多个孔的第一多孔径板(320),其布置在所述系统的带电粒子束路径中所述源的下游;第一多孔径选择器板(313),具有多个孔;载体(340),其中所述第一多孔径选择器板安装在所述载体上;致动器(350),构造为移动所述载体,使得在所述系统的第一操作模式中将所述第一多孔径选择器板布置在所述系统的带电粒子束路径中所述源的下游,并且使得在所述系统的第二操作模式中将所述第一多孔径选择器板布置在所述带电粒子束路径之外。其中,所述源、所述第一多孔径板和所述载体被布置为使得在所述第一操作模式中,在所述第一多孔径板和所述第一多孔径选择器板二者下游的位置处产生第一数量的带电粒子小波束,并且使得在所述第二操作模式中,在所述位置处产生第二数量的带电粒子小波束,其中小波束的第一数量与小波束的第二数量不同。

本申请是申请号为201180057076.2、申请日为2011年9月23日、发明名称为“粒子光学系统及布置,以及用于这种系统及布置的粒子光学组件”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及产生和使用带电粒子的多个小波束(beamlet)的带电粒子系统。本发明尤其涉及一种带电粒子检查系统,诸如显微镜系统,以及涉及带电粒子修改(modification)系统,例如电子光刻或选择性材料沉积/去除系统。

本发明可应用于任何类型的带电粒子,例如电子、离子(带电原子或分子)、正电子、μ介子等。

背景技术

对更小和更复杂的微结构化器件的日益增加的需求,以及对增加它的制造和检查过程的吞吐量的需求已经称为粒子光学系统的发展的动机,所述粒子光学系统使用多个带电粒子小波束来取代单个带电粒子束,因此明显改善这种系统的吞吐量。多个带电粒子小波束可由例如使用多孔径阵列的单个柱(column),或由多个单独的柱,或二者的组合来提供,如下文将更详细说明的。多小波束的使用关系到对粒子光学组件、布置和系统(例如显微镜、光刻系统和掩模修复系统)的全范围的新挑战。

从US 6,252,412 Bl可知传统的多带电粒子多小波束系统。那里公开的电子显微镜设备用于检查物体,例如半导体晶片。多个一次电子束彼此并行地聚焦在物体上,以在物体上形成多个一次电子束斑点(spot)。检测由一次电子产生并从各自的一次电子束斑点发出的二次电子。针对每一个一次电子束,提供分离的电子束柱。紧密地组装多个分离的电子束列。形成在物体上的一次电子束斑点的密度被形成电子显微镜设备的电子束柱的残存足印所限制。因此,实际上还限制了可同时形成在物体上的一次电子束斑点的数量,导致在以高分辨率检查半导体晶片时设备的吞吐量受限。

从US 5,892,224、US 2002/0148961 Al、US 2002/0142496 Al,US 2002/0130262Al、US 2002/0109090 Al、US 2002/0033449 Al、US 2002/0028399 Al可知使用聚焦在待检查的物体的表面上的多个一次电子小波束的电子显微镜设备。

从WO 2005/024881可知一种粒子光学系统,其中通过照明其中形成多个孔的多孔径板来产生多个小波束,其中通过设置在多孔径板上游的电子源产生单个电子束。电子小波束由电子束的穿过孔径的电子形成在多孔径板下游。多个一次电子小波束通过具有孔的物镜而聚焦物体上,该孔被所有的一次电子小波束穿过。然后,一次电子斑点的阵列形成在物体上。由各个一次电子斑点发射的二次电子形成各自的二次电子小波束,使得产生与多个一次电子束斑点相应的多个二次电子小波束。多个二次电子小波束也穿过物镜,并且设备提供二次电子束路径,使得将各个二次电子小波束被提供给多个检测器中相应的一个。维恩(Wien)滤波器用于将二次电子束路径从一次电子小波束的束路径分离。因为使用了包含多个一次电子小波束的一个共同的一次电子束路径和包含多个二次电子小波束的一个共同的二次电子束路径,所以可在视场内的多个子区域中同时执行物体的辐射和成像,因此通过减少检查或处理时间而提高了系统的吞吐量。

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