[发明专利]一种液晶显示器面板制造中的周边曝光方法

权利要求书

1.一种液晶显示器面板制造中的周边曝光方法，包括通过掩膜版的周边区域进行曝光使母基板上形成N层薄膜周边图案，其中N≥3，其特征在于，N层薄膜由深色材料膜层和浅色材料膜层组成，第1层薄膜周边图案为衡量标尺；第2～N层中，上下相邻的浅色材料膜层构成浅色材料膜层组，所述的浅色材料膜层组中至少有两层周边图案位置部分重合或全部重合，深色材料膜层周边图案与其上方的任意一层浅色材料膜层周边图案位置不重合，任意两个深色材料膜层周边图案位置不重合；深色材料为金属材料，浅色材料为非金属材料。

2.根据权利要求1所述的周边曝光方法，其特征在于，第1层薄膜周边图案与其他任意层薄膜周边图案位置不重合。

3.根据权利要求1所述的周边曝光方法，其特征在于，深色材料膜层周边图案与其下方的浅色材料膜层周边图案位置部分重合或全部重合。

4.根据权利要求1所述的周边曝光方法，其特征在于，不同的浅色材料膜层组的周边图案位置不重合。

5.根据权利要求1所述的周边曝光方法，其特征在于，每个浅色材料膜层组的层数≤6，所有的浅色材料膜层周边图案位置部分重合或全部重合。

6.根据权利要求1所述的周边曝光方法，其特征在于，每个浅色材料膜层组的层数＞6，将浅色材料膜层组顺次分成多个子组，每个子组的层数不超过6层，每个子组中，所有的浅色材料膜层周边图案位置部分重合或全部重合，不同子组之间的周边图案位置不重合。

7.根据权利要求1所述的周边曝光方法，其特征在于，第2～N层薄膜周边图案为线性图案。

8.根据权利要求7所述的周边曝光方法，其特征在于，金属材料为合金，非金属材料为金属氧化物、单晶硅、硅化合物、磷化合物或硒化合物。