[发明专利]一种工件台非正交校正方法及校正装置

说明书

本发明公开了一种工件台非正交校正方法及校正装置，该装置包括：非正交测量标记，设置在工件台上用于承载基板的粗动旋转台上，所述非正交测量标记至少设有三个，且不在一条直线上；视觉单元，用于获得所述非正交测量标记的位置；干涉仪测量单元，用于测量所述工件台的位置；还包括校正单元，根据所述非正交测量标记在粗动旋转台坐标系下的名义位置、所述视觉单元获得的所述非正交测量标记的位置以及所述工件台的位置计算所述工件台的非正交量，并发送至所述干涉仪测量单元进行补偿校正。本发明有效解决了工件台面型在曝光过程中受热形变对TP控制精度的影响，从而降低材料的使用成本。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种工件台非正交校正方法及校正装置。

背景技术

投影扫描式TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)光刻机是用于将掩模上图形清晰、正确地成像在涂有光刻胶的基板上，随着基板尺寸的增大，需要采用更大的平面镜作为工件台干涉仪测量反射镜，因此方镜的面型变化便成了制约TP(Total Pitch)精度的主要因素。

当镜子面型变化不大时，通常离线周期性标定即可，但是当面型受热形变较大时，离线标定周期已经无法满足需要。此外，镜子的旋转姿态变化还会对非正交性有所影响，使基板曝光的标记出现非正交的情况。

如图1所示为工件台上平面镜示意图，其中包括：工件台X向反射镜10、工件台微动模块20和干涉仪支架30。通过监测干涉仪光程的变化来测量及控制工件台的X向移动量。理想情况下，工件台沿着Y向运动时，对X向没有串扰，但是为了保证沿着Y向运动时，X向测量值不变，即光程不变，当工件台X向反射镜10存在面型时，为了保证光程不变，工件台需要进行X方向运动以补偿影响，此时工件台测量坐标系非理想的坐标系，而是弯曲的坐标系，不能满足整机需求。为了使工件台坐标系为理想的坐标系，我们需要周期性进行标定镜子面型，但是如果镜子的加工材料受热影响变化严重，当量产时，离线标定频率已经远不及镜子变化频率，因此需要在线测量其影响。现有的镜子高阶面型标定方法通常采用步进运动工件台来实现，即在测试时工件台需要停下来，这样做的缺点是标定时间较长，效率低。

发明内容

本发明提供了一种工件台非正交校正方法及校正装置，以解决现有技术中存在的问题。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种工件台非正交校正方法，包括以下步骤：

S1：在工件台上用于承载基板的粗动旋转台上设置非正交测量标记，所述非正交测量标记至少设有三个，且不在一条直线上；

S2：选取三个非正交测量标记，移动工件台，使视觉单元分别对准三个所述非正交测量标记，获得三个所述非正交测量标记的位置，同时通过干涉仪测量单元测量对准时所述工件台的位置x_s_i、y_s_i，其中i＝1,2,3；

S3：根据所述视觉单元测得的三个所述非正交测量标记的位置及所述视觉单元在整机零位坐标系下的位置，计算三个所述非正交测量标记在整机零位坐标系下的位置x_PZCS_i、y_PZCS_i，并结合所述工件台的位置x_s_i、y_s_i计算三个所述非正交测量标记在工件台坐标系下的测量位置x_PSCS_i、y_PSCS_i：

S4：根据三个所述非正交测量标记在工件台坐标系下的测量位置x_PSCS_i、y_PSCS_i和在所述粗动旋转台坐标系下的名义位置x_PTCS_i，y_PTCS_i计算所述工件台的非正交量Non_ortho：

Non_ortho＝rpux-rpuy；

cpux、cpuy表示三个所述非正交测量标记相对于工件台的平移量；

rpux、rpuy表示三个所述非正交测量标记相对于工件台在X、Y向的旋转量；