[发明专利]一种研磨装置有效

专利信息
申请号: 201610962505.5 申请日: 2016-11-04
公开(公告)号: CN108015674B 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 赵寅初;许安龙;汪琳琳;钱志禹 申请(专利权)人: 合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B24B53/10 分类号: B24B53/10;B24B21/04;B24B21/18
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 230012 安徽省合肥市新*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 研磨 装置
【说明书】:

发明提供了一种研磨装置,包括:研磨带;及,用于驱动所述研磨带运动的驱动机构;所述研磨装置还包括:研磨带清洁机构,其用于清洁所述研磨带。本发明所提供的研磨装置通过设置研磨带清洁机构,可以对研磨带的研磨面进行清洁,去除研磨带表面残留脏污及异物等,提高研磨带本身洁净度,从而避免对待研磨件造成二次污染或二次损伤,提升研磨带利用率,提升研磨和清洁效果,提高产品良率。

技术领域

本发明涉及显示器制造技术领域,尤其涉及一种研磨装置。

背景技术

在显示器制程中,在贴附偏光片前需要对玻璃基板表面进行清洗,以保证贴附偏光片制成的良率。

现有技术中主要是采用研磨带清洗方式来对玻璃基板表面进行清洗。图1所示为目前显示器制造行业内普遍使用的玻璃基板研磨清洗机的结构示意图。如图1所示,研磨清洗机主要包括呈环状的研磨带、驱动研磨带运动的驱动机构以及研磨清洗头部,其中,驱动机构驱动研磨带进行转动,以研磨玻璃基板,在研磨带的工作区域上端设置研磨清洗头部,通过研磨清洗头部来喷洒高压水汽二流体,以向所述研磨带提供研磨压力,而使研磨带和玻璃基板进行高速摩擦,达到清洁效果。

但是,目前的玻璃基板研磨清洗机长时间清洗时,研磨带的表面会累积大量脏污与胶类物质,再次对玻璃基板进行清洁时,会降低其清洁效果,严重时会将研磨带表面残胶与玻璃基板表面摩擦,造成玻璃基板二次污染;并且,TFT-LCD行业内普遍使用的研磨带,其材质为氧化铝,表面凸起研磨颗粒,受压力作用坚硬微小异物与玻璃碎屑极易嵌入研磨带基带或卡入研磨颗粒当中,再次研磨时,随着研磨带摩擦转动,有嵌入到基带内部的概率,进而再次对玻璃基部清洁时,极易对玻璃基部造成表面划伤,造成二次损坏。

发明内容

本发明的目的在于提供一种研磨装置,其可以避免由于研磨带表面脏污及残胶存在而对基板造成二次污染,解决坚硬异物与玻璃碎屑嵌入研磨带颗粒中造成基板划伤的问题。

本发明所提供的技术方案如下:

一种研磨装置,包括:研磨带;及,用于驱动所述研磨带运动的驱动机构;所述研磨装置还包括:研磨带清洁机构,其用于清洁所述研磨带。

进一步的,所述研磨带具有研磨面和与所述研磨面相对的非研磨面;

所述研磨带清洁机构包括:

清洁部,用于与所述研磨带的研磨面接触,以对研磨带的研磨面进行清洁,所述清洁部位于所述研磨带的研磨面一侧;

支撑部,用于与所述研磨带的非研磨面接触以支撑所述研磨带,以向所述研磨带提供与所述清洁部之间的接触压力,所述支撑部位于所述研磨带的非研磨面一侧,并位于所述清洁部所对应的位置处。

进一步的,所述清洁部包括:

清洁滚轮,其用于在所述研磨带的研磨面上滚动摩擦,以对所述研磨带的研磨面进行清洁,所述清洁滚轮的滚动方向与所述研磨带的运动方向一致;

滚轮驱动结构,用于驱动所述清洁滚轮滚动;

滚轮移动结构,用于控制所述清洁滚轮在第一状态和第二状态之间切换;其中,在所述第一状态,所述清洁滚轮与所述研磨带的研磨面接触,以对研磨带的研磨面进行清洁;在所述第二状态,所述清洁滚轮与所述研磨带的研磨面不接触。

进一步的,所述清洁部还包括:第一控制单元,用于控制所述滚轮移动结构的工作状态,以使得所述滚轮移动结构控制所述清洁滚轮按照第一预设周期在所述第一状态和所述第二状态之间切换。

进一步的,所述清洁部包括:

清洁刷,其能够在所述研磨带的研磨面上接触,以对所述研磨带的研磨面进行清洁,所述研磨带的研磨面上具有多个研磨颗粒,所述清洁刷具有能够嵌入至多个所述研磨颗粒之间的间隙内的刷毛;

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