[发明专利]成膜装置在审
申请号: | 201610966565.4 | 申请日: | 2016-10-28 |
公开(公告)号: | CN106906454A | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
发明(设计)人: | 梅原隆人;长谷川雅之;高桥喜一;佐佐木祐也 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
1.一种成膜装置,在真空容器内使旋转台旋转,而使旋转台上的多个基板依次通过处理气体的供给区域,由此在基板上成膜,其中,
该成膜装置包括:
凹部,其在所述旋转台的一面侧沿着周向设有多个,形成为分别收纳所述基板;
载置部,其用于在所述凹部内支承基板的比周缘部靠中央的部位;
槽部,其为环状,形成为在所述凹部内包围所述载置部;
连通路,其由连通槽或连通孔形成,该连通槽或连通孔形成为在从所述载置部的中心进行观察时从所述槽部的靠所述旋转台的旋转中心侧的区域连通到该凹部的外部的区域;以及
排气口,其用于对所述真空容器内进行真空排气,
所述外部的区域是与所述凹部相邻的其他凹部内的载置部的周围的环状的槽部或者所述旋转台的外周缘的外侧。
2.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述外部的区域是与所述凹部相邻的其他凹部内的载置部的周围的环状的槽部的从该其他凹部的载置部的中心进行观察时与所述旋转台的旋转中心相反的一侧的区域。
3.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
与所述凹部相邻的其他凹部是在从所述凹部进行观察时位于成膜时旋转台的旋转方向的上游侧的相邻的其他凹部。
4.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述处理气体的供给区域是沿着旋转台的旋转方向彼此分开的原料气体的供给区域以及与原料发生反应的反应气体的供给区域,
为了防止在所述原料气体的供给区域与反应气体的供给区域之间原料气体与反应气体混合,而在所述原料气体的供给区域与反应气体的供给区域之间设有朝向上游侧和下游侧喷出分离气体的分离区域。
5.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述连通路在从所述凹部的中央进行观察时与所述旋转台的中心相反的一侧的、凹部的端部区域以使所述凹部内的载置部的周围的空间与所述旋转台的外侧的空间连通的方式形成于该凹部的壁部。
6.根据权利要求5所述的成膜装置,其特征在于,
所述凹部的端部区域是在将连结凹部的中心与旋转台的旋转中心的直线同旋转台的外周相交的点记作P时,从凹部的中心相对于点P分别向左右形成30度的张角的直线之间的区域。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的