[发明专利]蒸镀设备

权利要求书

1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：

蒸镀腔室，以及掩膜版支撑线圈，所述掩膜版支撑线圈至少包括相对设置的第一线圈和第二线圈，所述第一线圈和所述第二线圈之间包括掩膜版设置区域，所述第一线圈和所述第二线圈上分别通入第一电流和第二电流，以使在所述掩膜版设置区域内形成的磁场的磁场强度均匀；

所述蒸镀设备还包括至少一组掩膜版搬运线圈；

所述掩膜版搬运线圈包括相对设置的第三线圈和第四线圈，所述第三线圈和所述第四线圈上分别通入第三电流和第四电流，以使在所述掩膜版设置区域内形成的磁场的磁场强度梯度均匀。

2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括掩膜版，所述掩膜版的材料为铁磁材料。

3.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述掩膜版支撑线圈包含的所有线圈的电流方向均与第一绕行方向相同；

所述掩膜版支撑线圈包含的各线圈上的电流值与各线圈自身的匝数的乘积相等；

所述掩膜版支撑线圈中各线圈的轴线重合。

4.根据权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述第三电流的方向与所述第一绕行方向相同，所述第四电流的方向与所述第一绕行方向相反；

所述第三电流的电流值与所述第三线圈的匝数的乘积等于所述第四电流的电流值与所述第四线圈的匝数的乘积；

所述第三线圈和所述第四线圈的轴线重合。

5.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述掩膜版搬运线圈和所述掩膜版支撑线圈的轴线重合。

6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述第一线圈、所述第二线圈、所述第三线圈和所述第四线圈的形状为对称图形。

7.根据权利要求6所述的蒸镀设备，其特征在于，所述第一线圈、所述第二线圈、所述第三线圈和所述第四线圈的形状为圆形、多边形、椭圆形或跑道形。

8.根据权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述掩膜版支撑线圈仅包括第一线圈和第二线圈；

所述第一线圈和所述第二线圈的形状为圆形；

所述第一线圈的半径、所述第二线圈的半径以及所述第一线圈和所述第二线圈之间的距离均相等。

9.根据权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述蒸镀设备包括一组掩膜版搬运线圈；

所述第三线圈和所述第四线圈的形状为圆形；

所述第三线圈和所述第四线圈的半径相等；

所述第三线圈和所述第四线圈之间的距离等于所述第三线圈半径的倍。

10.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述掩膜版支撑线圈中所述第一线圈和所述第二线圈之间的距离等于所述掩膜版搬运线圈中所述第三线圈和所述第四线圈之间的距离；或者

所述第一线圈、所述第二线圈、所述第三线圈和所述第四线圈的半径相同。

11.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，

掩膜版的形状为矩形；

所述第三线圈的半径大于所述掩膜版的长边的边长。

12.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述第一电流的电流值和所述第三电流的电流值的比值大于或等于0.1且小于或等于10。

13.根据权利要求12所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述第一电流的电流值等于所述第三电流的电流值。