[发明专利]卡盘销、制造卡盘销的方法和基板处理装置

说明书

技术领域

在此公开的本发明涉及用于支撑基板的卡盘销、制造卡盘销的方法和基板处理装置。

背景技术

通常，在用于制造平板显示器或半导体器件的方法中，在处理玻璃基板或晶片期间进行各种工艺，例如光致抗蚀剂涂覆工艺、显影工艺、蚀刻工艺和灰化工艺。

特别地，随着半导体器件变得具有高密度、高集成度和高性能，电路图案的微型化急速出现，因此存在于基板表面的污染物诸如颗粒、有机污染物、金属污染物等大大影响了生产率和器件特性。因此，使得用于除去附着到基板表面的各种污染物的清洗工艺成为半导体制造过程中的重要工艺，并且在半导体制造工艺的每个单元工序之前和之后都进行基板清洁。

同时，清洁工艺使用诸如化学品等的处理液。但是，化学品频繁直接接触基板处理装置的部件。当重复制造工艺时，基板处理装置的部件被化学品损坏并且需要定期更换。

特别地，支撑基板的卡盘销直接与基板接触，因此在基板处理工艺期间直接与化学品接触。因此，卡盘销比其它部件具有更快的化学品损坏率。当卡盘销损坏时，需要更换卡盘销，而由于卡盘销频繁受损，因此更换周期变快。

发明内容

本发明的实施方式提供了具有良好的耐腐蚀性和耐久性的卡盘销、制造卡盘销的方法和基板处理装置。

此外，本发明的实施方式提供了一种卡盘销，其可以通过增强其耐腐蚀性和耐久性而最小化基板处理工艺期间产生的颗粒的产生因素；制造卡盘销的方法以及基板处理装置。

本发明的实施方式不限于下文，而本领域技术人员从以下描述中可以理解本发明的其它目的。

本发明的实施方式提供一种基板处理装置。

根据本发明的实施方式，基板处理装置包括：容器，所述容器在其内侧具有处理空间；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑基板；和液体供应单元，所述液体供应单元向由所述支撑单元支撑的所述基板提供溶液，其中所述支撑单元包括其上放置所述基板的支撑板和设置在所述支撑单元处以支撑所述基板的侧面的卡盘销，并且其中所述卡盘销包括本体和在所述本体的表面上以碳化硅材料设置的第一涂膜。

根据实施方式，所述第一涂膜通过化学气相沉积(CVD)形成。

根据实施方式，所述溶液是氢氟酸、硫酸、磷酸、或其混合物。

根据实施方式，所述卡盘销还包括形成在所述第一涂膜的表面上的第二涂膜，并且其中所述第二涂膜被设置为氟化物涂膜。

根据本发明的实施方式，一种支撑基板的侧面的卡盘销包括：本体；和第一涂膜，所述第一涂膜在所述本体的表面上被设置为碳化硅材料。

根据实施方式，所述第一涂膜通过化学气相沉积(CVD)形成。

根据实施方式，所述卡盘销还包括在所述第一涂膜的表面上的第二涂膜，并且其中所述第二涂膜被设置为氟化物涂膜。

根据本发明的实施方式，一种制造支撑基板的侧面的卡盘销的方法，包括：在本体的表面上形成以碳化硅材料设置的第一涂膜，其中所述第一涂膜通过化学气相沉积(CVD)形成。

根据实施方式，所述方法还包括在所述第一涂膜的表面上形成设置为氟化物涂膜的第二涂膜。

根据实施方式，所述氟化物涂膜通过在所述氟化物和所述第一涂膜的所述表面之间形成共价键而形成。

根据实施方式，所述方法还包括在形成所述氟化物涂膜之前在所述第一涂膜的所述表面上形成缺陷。

根据实施方式，所述缺陷是通过用酸或碱溶液处理所述第一涂膜的所述表面而形成的，并且其中所述氟化物涂膜是通过在该处理后的第一涂膜的所述表面供应氟化物而形成的。

本发明构思的目的不限于上述效果。本领域技术人员从以下说明和本申请中可以理解本发明构思的其它目的。

附图说明

图1是根据本发明的实施方式的基板处理装置的平面图。

图2是根据本发明的实施方式的设置在图1的处理室中的基板处理装置的横截面图。

图3是图2的卡盘销的正视图。

图4是从A-A方向观察的图3的卡盘销的横截面图。

图5是图3的卡盘销的另一实施方式的正视图。

图6是从B-B方向观察的图5的卡盘销的横截面图。

图7示意性示出了在图5的卡盘销上氟化物涂膜的形成。

图8示意性示出了氟化物与图7的氟化物涂膜中的表面键合。

具体实施方式