[发明专利]一种抗超高温氧化ZrC/TaC微叠层涂层的制备方法

权利要求书

1.一种抗超高温氧化ZrC/TaC微叠层涂层的制备方法，其特征在于，采用多靶磁控溅射涂层设备，金属Zr靶、Ta靶和非金属C靶分别由独立的直流电源控制，以氩气作为溅射气体和载气，通过反应溅射制备ZrC/TaC微叠涂层，多层的微叠层结构通过基体在Zr靶、C靶和Ta靶、C靶前交替沉积形成，通过调节靶功率和沉积时间控制各亚层的厚度。

2.根据权利要求1所述的抗超高温氧化ZrC/TaC微叠层涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)采用具有独立控制的直流电源多靶磁控溅射涂层设备；

2)涂层制备过程中所用的金属Zr靶、Ta靶以及非金属C靶的纯度高于99.99wt％；

3)将SiC层作为过渡层的C/C基体清洗干燥后，安装于真空室内可转动的样品台上；

4)将Zr靶、Ta靶和C靶分别置于相应的直流电源的靶位；

5)通过分子泵将真空系统的本底真空控制在<10-4Pa；

6)通过基体背面的电阻丝炉将样品加热并控制在500～700℃；

7)开启控制Zr靶、C靶的直流电源，调节两个靶的功率制备满足化学计量比的ZrC层，然后将样品台转至Ta靶、C靶的靶位，同样调节两个靶的功率溅射满足化学计量比的TaC层，样品台在不同靶位的沉积实现叠层涂层的制备。

3.根据权利要求1或2所述的抗超高温氧化ZrC/TaC微叠层涂层的制备方法，其特征在于，氩气的气压控制在0.3～0.6Pa范围内。

4.根据权利要求1或2所述的抗超高温氧化ZrC/TaC微叠层涂层的制备方法，其特征在于，每次沉积ZrC层的厚度为4～6微米，每次沉积TaC层的厚度为1～1.5微米。

5.根据权利要求2或5所述的抗超高温氧化ZrC/TaC微叠层涂层的制备方法，其特征在于，ZrC层和TaC层的厚度分别由靶材直流电源的功率和沉积时间所控制。