[发明专利]连续镀膜设备在审
| 申请号： | 201611036611.7 | 申请日： | 2016-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN108085708A | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 刘品均;杨峻杰;陈松醮;蔡明展;林子平 | 申请（专利权）人： | 友威科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23G5/00 | 分类号： | C23G5/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉双;鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台湾桃园市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 承载件 辅助电极 电极 放电端 侧边 电浆 连续镀膜设备 电源供应 清洁腔室 附着力 铜绿 电极设置 电性连接 镀膜腔室 清洁 氧化铜 氧化物 腔室 去除 阻抗 载入 承载 | ||
1.一种连续镀膜设备，包含有依序设置的一载入腔室、一电浆清洁腔室以及一镀膜腔室，用以对一基板进行清洁，其特征在于，该电浆清洁腔室包含有：
一用以承载该基板的承载件；
一设置于该基板远离该承载件的一侧的电极；
多个辅助电极，该辅助电极设置于该电极相邻于该承载件的一侧且各具有一放电端，该放电端分别对应于该基板的一侧边；以及
一电性连接于该电极与该辅助电极的电源供应件。
2.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，更包含有一与该电浆清洁腔室连接的压力控制单元。
3.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该放电端为平面。
4.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该放电端为呈三角形状。
5.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该放电端为呈梯形状。
6.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，更包含有一吸附件，该吸附件通过该承载件的多个吸附孔而使该基板吸附固定于该承载件上。
7.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该电极具有一滑轨，该辅助电极各具有一滑移件，该滑移件卡设于该滑轨内。
8.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该电极具有多个第一卡固部，该辅助电极各具有一与该第一卡固部配合的第二卡固部。
9.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，更包含有一与该电浆清洁腔室连接的气体供应单元。
10.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该载入腔室与该电浆清洁腔室之间具有一第一闸门，该电浆清洁腔室与该镀膜腔室之间具有一第二闸门。
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