[发明专利]连续镀膜设备

说明书

本发明公开一种连续镀膜设备，包含有依序设置的一载入腔室、一电浆清洁腔室以及一镀膜腔室，用以对一基板进行清洁，该电浆清洁腔室包含有一承载件、一电极、多个辅助电极以及一电源供应件，该承载件用以承载该基板，该电极设置于该基板远离该承载件的一侧，该些辅助电极设置于该电极相邻于该承载件的一侧且各具有一放电端，该些放电端分别对应于该基板的一侧边，该电源供应件电性连接于该电极与该些辅助电极，借由使该些放电端对应于该基板的该侧边，可以对该侧边进行电浆清洁，以去除铜绿、氧化铜等氧化物，进而提升该侧边的附着力并降低阻抗。

技术领域

本发明涉及一种镀膜设备，尤指一种连续镀膜设备。

背景技术

在半导体、显示器、太阳能电池等电子装置进行制作工艺时，基材于搬运或进行其它步骤时，难免会暴露于空气中，而空气中的氧气与水气会与基材产生反应而生成氧化物于基材的表面上，并造成后续工艺的困难，因此，在进行制作工艺前，通常会先清洗基材以去除氧化物。

常见的清洗方式如中国台湾专利公告第428045号的“利用非全球暖化化合物的电浆清洁和蚀刻方法”，其包含有一处理室、一电源、一上电极以及一下电极，该上电极与该下电极相对置于该处理室中，该电源电性连接于该上电极，并将一基板置于该下电极相邻于该上电极的一侧，而后，该电源供给电力，会于该上电极与该下电极之间产生电浆，以清洗该基板。

然而，产生的该电浆通常仅会存在于该上电极与该基板之间，虽然该电浆可以对该基板的上表面进行清洁，但却无法有效的清洁该基板的侧边，而侧边同样会具有铜绿、氧化铜等氧化物产生，进而导致侧边的附着力降低并会进一步提升阻抗，影响工艺，因此，如何有效的清洁该基板的侧边，实为一大课题。

发明内容

本发明的主要目的，在于提供一种连续镀膜设备，解决电浆无法有效的清洁该基板侧边的问题。

为达上述目的，本发明提供一种连续镀膜设备，包含有依序设置的一载入腔室、一电浆清洁腔室以及一镀膜腔室，用以对一基板进行清洁，该电浆清洁腔室包含有一用以承载该基板的承载件、一电极、多个辅助电极以及一电源供应件，该电极设置于该基板远离该承载件的一侧，该些辅助电极设置于该电极相邻于该承载件的一侧且各具有一放电端，该些放电端分别对应于该基板的一侧边，该电源供应件电性连接于该电极与该些辅助电极。

其中，更包含有一与该电浆清洁腔室连接的压力控制单元。

其中，该放电端为平面。

其中，该放电端为呈三角形状。

其中，该放电端为呈梯形状。

其中，更包含有一吸附件，该吸附件通过该承载件的多个吸附孔而使该基板吸附固定于该承载件上。

其中，该电极具有一滑轨，该辅助电极各具有一滑移件，该滑移件卡设于该滑轨内。

其中，该电极具有多个第一卡固部，该辅助电极各具有一与该第一卡固部配合的第二卡固部。

其中，更包含有一与该电浆清洁腔室连接的气体供应单元。

其中，该载入腔室与该电浆清洁腔室之间具有一第一闸门，该电浆清洁腔室与该镀膜腔室之间具有一第二闸门。

综上所述，该电源供应件供给电力后，该电极与该些辅助电极会解离中性气体原子而产生电浆，并通过该些放电端对应于该基板的该侧边，而可以对该侧边进行电浆清洁，以去除铜绿、氧化铜等氧化物，进而提升该侧边的附着力并降低阻抗。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1为本发明的设备结构示意图。

图2为本发明第一实施例的局部剖面示意图。