[发明专利]高纯石墨制品高结合力釉质涂层及其制备方法

权利要求书

1.高纯石墨制品釉质涂层，包括中间过渡层和表面层，其特征在于，中间过渡层为Al2O3层或SiO2层；表面层为釉层。

2.如权利要求1所述的涂层，其特征在于，中间过渡层厚度为0.04～0.1mm，表面层厚度为0.3-0.9mm。

3.高纯石墨制品釉质涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)、将石墨制品表面抛光、清洗、干燥；

(2)、再进行热腐蚀处理；

(3)、对热腐蚀处理后的制品表面进行等离子喷涂Al2O3层或SiO2层；

(4)、最后再于制品表面喷涂釉料，然后在700℃～1300℃下进行烧制，保温30～40min后自然冷却至室温。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，抛光后的石墨制品表面粗糙度Ra≤1.6um。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的清洗采用乙醇，所述的干燥采用压缩空气吹干。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，石墨制品为杂质含量少于100ppm的高纯石墨。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，热腐蚀处理后的石墨制品产生的凹坑最大深度为10um～15um。

8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，Al2O3层或SiO2层中的颗粒大小均为50um～60um，纯度不小于99.9％，Al2O3层或SiO2层的厚度为40um～100um。

9.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，等离子喷涂工艺参数如下：等离子气体氩气流量45～55slpm，等离子气体氢气流量5～10slqm，电流600～680A，功率45～50kW，送粉载气氩气流量4～5slpm，送粉速率25～35g/min，喷涂距离100～120mm，喷涂厚度为40um～100um。

10.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，釉料按质量百分比计，包括以下组分：

40％～70％的SiO2

15％～36％的Al2O3

0％～4％的ZrO2

0％～15％的CaO

0％～2.5％的Fe2O3

0％～2％的TiO2

0％～2％的MgO

0％～10％的Na2O

0％～10％的K2O。