[发明专利]双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法

权利要求书

1.一种双面光刻装置，将作为光刻对象的工件的第一面通过第一掩膜进行光刻，将与该第一面相反侧的第二面通过第二掩膜进行光刻，其特征在于，在将与所述第一面以及所述第二面相平行的面定为包含有垂直相交的x轴以及y轴的xy平面时，包括：

第一掩膜台，使所述第一掩膜可沿所述xy平面移动的同时可沿所述xy平面转动；以及

第二掩膜台，使所述第二掩膜可沿所述xy平面移动的同时可沿所述xy平面转动，

其中，所述第二掩膜台安装在所述第一掩膜台上，并且能够在该第一掩膜台上除该第一掩膜台之外沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动，当所述第一掩膜台沿所述xy平面移动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向移动相同的量，当所述第一掩膜台沿所述xy平面转动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向转动相同的量。

2.根据权利要求1所述的双面光刻装置，其特征在于：

其中，具有：

第一掩膜安装板，被设置在所述工件的第一面侧，并且能够将所述第一掩膜自如地安装和卸下；以及

第二掩膜安装板，被设置在所述工件的第二面侧，并且能够将所述第二掩膜自如地安装和卸下，

所述第一掩膜安装板通过垂直设置于所述第一掩膜台上的支撑部件从而被固定在所述第一掩膜台上，所述第二掩膜安装板通过垂直设置于所述第二掩膜台上的支撑部件从而被固定在所述第二掩膜台上。

3.根据权利要求1或2所述的双面光刻装置，其特征在于：

其中，可沿所述xy平面移动是指，可沿所述x轴移动的同时可沿所述y轴移动；可沿所述xy平面转动是指，可在与所述xy平面相垂直的z轴周围转动。

4.根据权利要求1或2所述的双面光刻装置，其特征在于：

其中，用于所述第一掩膜与所述第二掩膜对准的掩膜对准标记，被分别设置于所述第一掩膜和所述第二掩膜上，同时，用于所述第一掩膜以及所述第二掩膜与所述工件对准的工件对准标记被分别设置于所述第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜上和所述工件上。

5.根据权利要求4所述的双面光刻装置，其特征在于，进一步包括：

摄像装置，能够对所述掩膜对准标记以及工件对准标记进行摄像；以及

对准控制装置，具备根据通过该摄像装置获得的摄像数据，控制所述第二掩膜台使分别被设置于所述第一掩膜与所述第二掩膜处的所述掩膜对准标记一致，同时，控制所述第一掩膜台使分别被设置于所述第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜处与所述工件处的所述工件对准标记一致的功能。

6.根据权利要求5所述的双面光刻装置，其特征在于：

其中，进一步包括能够控制用于移动所述摄像装置的摄像装置移动控制装置，该摄像装置移动控制装置具备至少在光刻时控制所述摄像装置移动从而使所述摄像装置位于离开工件上的光刻对象区域的位置上的功能。

7.根据权利要求4所述的双面光刻装置，其特征在于：

其中，所述掩膜对准标记在所述第一掩膜上的相互隔开的规定位置上设置有m处(m为大于等于2的整数)，并且在所述第二掩膜上的相互隔开的规定位置上与所述第一掩膜上设置的m处掩膜对准标记相对应地设置有m处；

所述工件对准标记在所述第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜上的相互隔开的规定位置上设置有n处(n为大于等于2的整数)，并且在所述工件上的相互隔开的规定位置上与所述掩膜上设置的n处工件对准标记相对应地设置有n处。