[发明专利]双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法

说明书

能够在不移动和不转动工件的情况下，将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准。【解决手段】具有使第一掩膜M1可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第一掩膜台100；以及使第二掩膜M2可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第二掩膜台200，其中，第二掩膜台200能够在第一掩膜台100上除第一掩膜台100之外沿xy平面移动的同时沿xy平面转动，并且,当第一掩膜台100沿xy平面移动和转动时，随第一掩膜台100一同沿xy平面移动和转。

技术领域

本发明涉及双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法。

背景技术

以往，对作为光刻对象的工件(电路基板等)的第一面、与该第一面相反侧的第二面分别进行光刻的双面光刻装置已被广泛使用。在这样的双面光刻装置中，在将配置于工件的第一面侧的第一掩膜与配置于工件的第二面侧的第二掩膜进行对准后，再将第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，需要在第一掩膜与第二掩膜的位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准。

像这样，作为使第一掩膜与第二掩膜的位置关系保持不变来进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准的对准方法，可列举的一例为：在将第一掩膜与第二掩膜进行对准后，先将第一掩膜按预先设定的量移动和转动后，使该第一掩膜与工件进行对准，接着，在根据第一掩膜的移动量或转动量来移动和转动第二掩膜，从而使该第二掩膜与工件进行对准。

像这样的对准控制，也就是软件(Software)控制，其通过预先构筑用于进行对准控制的控制软件来得以实现。然而，在像这样的软件控制过程中，即使是在用于将第一掩膜与工件进行对准控制的控制数据被恰当地设定的情况下，有时也会发生第一掩膜台(Table)驱动构造的运作与第二掩膜台驱动构造的运作间产生物理性偏差的情况。

因此，如果根据用于将第一掩膜与工件进行对准控制的控制数据，从而将第二掩膜与工件进行对准的话，有可能会在当初已完成对准的第一掩膜与第二掩膜之间产生位置偏移，其结果就是，第一掩膜与第二掩膜无法高精度的完成对准。

另一方面，也有能够在不使用上述的软件控制，而是利用机械的运作保持第一掩膜与第二掩膜的位置关系不变，来完成第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准的双面光刻装置被提出(例如，参照专利文献1)。

专利文献1中记载的双面光刻装置为：在将第一掩膜与第二掩膜的进行对准后，在将已完成对准的第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，不将第一掩膜和第二掩膜分别移动和转动，而是将工件一侧在平面上进行移动和转动。通过这样，就能够在保持第一掩膜与第二掩膜的位置关系不变的情况下，将已完成对准的第一掩膜以及第二掩膜，与工件进行对准。

【先行技术文献】

【专利文献1】特开2013-142778号公报

发明内容

但是，如专利文献1中记载的双面光刻装置般，在将第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，使用将工件一侧进行移动的方法，但这种方法根据工件种类的不同，有时会有不理想的情况产生。例如，像长条片状的工件从输送辊推进至收卷辊，也就是在被称为卷对卷(Roll to Roll)方式的双面光刻装置中，如果要将工件一侧在平面上进行移动和转动的话，由于需要将用于将工件一侧在平面上进行移动和转动的构造组配进工件的输送构造中，因此工件的输送构造就会变得复杂，而且，一旦将工件一侧在平面上进行移动和转动，就有可能成为工件褶皱或扭曲的成因。这样，就存在有一旦工件产生褶皱或扭曲，就无法进行高品质的双面光刻的课题。

本发明鉴于以上课题，以提供一种不将工件移动和转动，同时又能够将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准的双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法为目的。