[发明专利]一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法有效
申请号: | 201611063550.3 | 申请日: | 2016-11-28 |
公开(公告)号: | CN106758174B | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 杨志全;曾海军;张新民 | 申请(专利权)人: | 菏泽天源电子科技股份有限公司 |
主分类号: | D06M11/83 | 分类号: | D06M11/83;C23C14/35;C23C14/20;C09J7/21 |
代理公司: | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人: | 张贵宾 |
地址: | 274700 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热熔胶 单面涂覆 磁控溅射镀膜设备 屏蔽织物 室内 镀铝 基材 制备 平面式磁控溅射靶 矩形平面磁控靶 圆柱形磁控靶 褶皱 表面金属层 沉积金属层 热熔胶涂布 氩气 表面涂覆 金属涂层 成品率 铝靶材 涂布线 靶源 放卷 负压 刮痕 溅射 涂覆 加工 | ||
1.一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)将基材在涂布线上放卷经过无刮痕热熔胶涂布头,单面涂覆一层热熔胶,涂布克重10-20g/m2,涂布速度250-350m/min;
(2)将涂覆有热熔胶的基材放置在真空室内,真空室内抽至负压,然后向真空室内通入氩气,采用磁控溅射镀膜设备溅射铝靶材,溅射区两极之间的电压为300-500V,直流电流为5-8A,溅射时间为1-1.5min;所述磁控溅射镀膜设备的靶源采用矩形平面磁控靶和同轴圆柱形磁控靶结合,构成圆柱形、平面式磁控溅射靶;镀膜前后的收卷和放卷部位安装了可在镀膜机外实现转角控制的分段展平辊;所述镀膜前后的收卷和放卷侧安装有张力传感器和控制器。
2.根据权利要求1所述的一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法,其特征在于:所述基材为厚度0.015-0.02mm的白色涤纶布。
3.根据权利要求1或2所述的一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法,其特征在于:所述基材涂布克重为15 g/m2,涂布速度为300 m/min。
4.根据权利要求1所述的一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法,其特征在于:步骤(2)中真空室内抽至负压为(1-10)×10-3Pa,通入氩气后的工作真空为(1-2)×10-1Pa。
5.根据权利要求1所述的一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法,其特征在于:镀膜时采用冷辊对基材进行依附降温冷却和恒速控制。
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