[发明专利]一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法有效
| 申请号： | 201611066506.8 | 申请日： | 2016-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN106750047B | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 张建军;宋晓庆;王洁欣;乐园;陈建峰 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C08F290/06 | 分类号： | C08F290/06;C08F220/56;C08F222/20;C08F222/38;C08F4/40;A61K47/58;A61K47/69;A61K9/51;A61K31/704;A61P35/00 |
| 代理公司： | 11203 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 沈波 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阿霉素 纳米药物 交联剂 胶囊 氧化还原引发剂 原位自由基聚合 甲基丙烯酰胺 四甲基乙二胺 表面正电荷 丙烯酸酯基 表面修饰 丙烯酰胺 二甲氨基 分散均匀 过硫酸铵 纳米胶囊 平均粒径 中性单体 溶出度 丙基 降解 溶出 水中 透析 制备 离子 投递 体内 | ||
1.一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法，其特征在于：该方法包括如下步骤，
S1提供阿霉素的表面修饰剂丙烯酸酯基辛基苯酚聚乙二醇醚(OP-AC)；
S2将包含阿霉素的二甲基亚砜溶液加入到OP-AC的去离子水溶液中，得到表面修饰有丙烯酸酯基的阿霉素，再加入一定量的中性单体丙烯酰胺(AM)、带正电的单体N-[3-(二甲氨基)丙基]甲基丙烯酰胺(DMA)、pH响应降解交联剂二甲基丙烯酸甘油酯(GDM)以及氧化还原引发剂过硫酸铵/TEMED引发原位自由基聚合；
S3收集S2中包含阿霉素聚合物的液体，透析、冷冻干燥得到阿霉素纳米药物胶囊；
OP-AC的分子结构如下：
AM的分子结构如下:
DMA的分子结构如下：
GDM的分子结构如下：
pH响应降解交联剂为二甲基丙烯酸甘油酯(GDM)。
2.根据权利要求1所述的一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法，其特征在于：阿霉素的表面修饰剂OP-AC是通过如下步骤合成的：
S1.1将辛基苯酚聚乙二醇醚(OP-10)、三乙胺和四氢呋喃按一定比例添加到三口瓶中，将三口瓶置于冰水中，用电磁搅拌器搅拌；
S1.2将一定量的丙烯酰氯溶解在四氢呋喃中，然后逐滴添加到三口瓶中，添加完成后反应5小时，温度保持在0～5℃；
S1.3收集S1.2中的产物，通过旋转蒸发仪除去四氢呋喃；
S1.4收集S1.3中的产物，加入适量的丙酮，分离得到含有OP-AC的上清液，再利用旋转蒸发仪除去丙酮，离心分离得到OP-AC；
S1.5收集S1.4中的产物，在真空干燥箱中干燥，得到OP-AC。
3.根据权利要求1所述的一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法，其特征在于：OP-AC的去离子水溶液中的OP-AC和阿霉素的质量比为1/5；二甲基亚砜和去离子水的体积比为1/25。
4.根据权利要求1所述的一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法，其特征在于：阿霉素/(单体+交联剂)质量比为1/0.1～1/0.03；单体和交联剂的质量比为1/1～1/0.1；带正电的单体DMA和中性单体AM的质量比为1/3～3/1。
5.根据权利要求1所述的一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法，其特征在于：所述的阿霉素和过硫酸铵的质量比为1/0.04，单体和TEMED的质量比为1/5。
6.根据权利要求1所述的一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法，其特征在于：由该制备方法制得的阿霉素纳米药物胶囊，阿霉素(1)的表面有一层聚合物载体(2)，聚合物载体(2)的表面带有正电荷(3)；阿霉素纳米药物胶囊的平均粒径在200nm～400nm、分散性较好；溶出速率和溶出度较大，具有pH响应释药性。
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