[发明专利]一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法有效

专利信息
申请号: 201611072791.4 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN106702427B 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 杨斌;王广欣;陈晓芳;赵云超;张鹏飞;逯峙 申请(专利权)人: 河南科技大学
主分类号: C25C1/08 分类号: C25C1/08;C22B3/42
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 刘兴华
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电积钴 痕量铁 脱除 静态离子交换 螯合型树脂 除杂净化 绿色环保 循环利用 电积槽 高纯钴 杂质铁 钴溶液 树脂 电积 脱铁
【权利要求书】:

1.一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤一:使用钴盐晶体与水配成溶液或钴片电溶造液,所得电积钴溶液中钴离子的浓度为30~150g/L,杂质铁离子的浓度小于500mg/L,用酸溶液或碱溶液调节溶液的pH值至1~3;

步骤二:将Monophos螯合型离子交换树脂与步骤一所得的电积钴溶液进行混合,用酸溶液或碱溶液调节溶液pH值至1~5,在20℃~60℃条件下,静置10min~240min进行深度除痕量铁,其中离子交换树脂与电积钴溶液的体积比为1:3~1:20;

步骤三:将步骤二经过净化除铁后的钴溶液进行电积精炼,得到铁含量小于1ppm的99.999%的高纯钴,所述电积精炼条件为:电积钴溶液pH值为1~4,溶液温度25~70℃,电流密度45~160A/m2,电压2.0~14V。

2.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤一中的钴盐晶体为CoSO4·7H2O或CoCl2·6H2O晶体。

3.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤二中调节溶液pH值至2~3。

4.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤二中温度为40℃~60℃。

5.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤二中静置时间为10min~90min。

6.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤一和步骤二中的酸溶液为硫酸溶液或盐酸溶液,碱溶液为氨水溶液。

7.如权利要求3所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤二中离子交换树脂与电积钴溶液的体积比为1:5~1:8。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河南科技大学,未经河南科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611072791.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top