[发明专利]一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法有效
申请号: | 201611072791.4 | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN106702427B | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 杨斌;王广欣;陈晓芳;赵云超;张鹏飞;逯峙 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | C25C1/08 | 分类号: | C25C1/08;C22B3/42 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 刘兴华 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电积钴 痕量铁 脱除 静态离子交换 螯合型树脂 除杂净化 绿色环保 循环利用 电积槽 高纯钴 杂质铁 钴溶液 树脂 电积 脱铁 | ||
1.一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:使用钴盐晶体与水配成溶液或钴片电溶造液,所得电积钴溶液中钴离子的浓度为30~150g/L,杂质铁离子的浓度小于500mg/L,用酸溶液或碱溶液调节溶液的pH值至1~3;
步骤二:将Monophos螯合型离子交换树脂与步骤一所得的电积钴溶液进行混合,用酸溶液或碱溶液调节溶液pH值至1~5,在20℃~60℃条件下,静置10min~240min进行深度除痕量铁,其中离子交换树脂与电积钴溶液的体积比为1:3~1:20;
步骤三:将步骤二经过净化除铁后的钴溶液进行电积精炼,得到铁含量小于1ppm的99.999%的高纯钴,所述电积精炼条件为:电积钴溶液pH值为1~4,溶液温度25~70℃,电流密度45~160A/m2,电压2.0~14V。
2.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤一中的钴盐晶体为CoSO4·7H2O或CoCl2·6H2O晶体。
3.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤二中调节溶液pH值至2~3。
4.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤二中温度为40℃~60℃。
5.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤二中静置时间为10min~90min。
6.如权利要求1所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤一和步骤二中的酸溶液为硫酸溶液或盐酸溶液,碱溶液为氨水溶液。
7.如权利要求3所述的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法,其特征在于:所述步骤二中离子交换树脂与电积钴溶液的体积比为1:5~1:8。
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