[发明专利]一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法

说明书

本发明涉及一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法，采用螯合型树脂Monophos，经静态离子交换法深度脱除钴溶液中杂质铁的工艺，然后通入电积槽进行电积除杂净化，可得到铁含量小于1ppm的99.999%的高纯钴；本发明适用于电积钴液中痕量铁的深度脱除，该工艺简单易操作、稳定性好、成本低、绿色环保、且树脂经过脱铁处理后可以循环利用。

技术领域

本发明涉及化工领域，具体的说是一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法。

背景技术

众所周知，制备高纯钴的关键在于钴盐溶液中杂质的深度净化。钴盐溶液中杂质铁会导致由高纯钴制备的电子元件磁性能不一致。溶液中除铁的方法有中和法、针铁矿法、氧化铁法、铁矾法，这些方法主要针对湿法冶金冶炼过程中杂质铁的脱除，而适用于电积钴液中痕量铁的深度脱除方法的国内外研究报道甚少。

发明内容

本发明的目的是提供一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法，该工艺简单易操作、稳定性好、成本低、绿色环保、且树脂经过脱铁处理后可以循环利用。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法，包括以下步骤：

步骤一：使用钴盐晶体与水配成溶液或钴片电溶造液，所得电积钴溶液中钴离子的浓度为30~150g/L，杂质铁离子的浓度小于500mg/L，用酸溶液或碱溶液调节溶液的pH值止1~3；

步骤二：将Monophos螯合型离子交换树脂与步骤一所得的电积钴溶液进行混合，用酸溶液或碱溶液调节溶液pH值至1~5，在20℃~60℃条件下，静置10min~240min进行深度除痕量铁；

步骤三：将步骤二经过净化除铁后的钴溶液进行电积精炼，得到铁含量小于1ppm的99.999%的高纯钴。

所述步骤一中的钴盐晶体为CoSO₄•7H₂O或CoCl₂·6H₂O晶体。

所述步骤二中的离子交换树脂与电积钴溶液的体积比为1:3~1:20。

所述步骤二中调节溶液pH值至2~3。

所述步骤二中温度为40℃~60℃。

所述步骤二中静置时间为10min~90min。

所述步骤一和步骤二中的酸溶液为硫酸溶液或盐酸溶液，碱溶液为氨水溶液。

所述步骤三中电积精炼条件为：电积钴溶液pH值为1~4，溶液温度25~70℃，电流密度45~160A/m²，电压2.0~14V。

所述步骤二中离子交换树脂与电积钴溶液的体积比为1:5~1:8。

本发明的有益效果：

本发明提供的电积钴溶液中深度除痕量铁的方法，采用螯合型树脂Monophos，经静态离子交换法深度脱除钴溶液中杂质铁的工艺，然后通入电积槽进行电积除杂净化，可得到铁含量小于1ppm的99.999%的高纯钴；本发明适用于电积钴液中痕量铁的深度脱除，该工艺简单易操作、稳定性好、成本低、绿色环保、且树脂经过脱铁处理后可以循环利用。

附图说明

图1为电积钴板GDMS分析报告单。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明做进一步的阐述。

一种电积钴溶液中深度除痕量铁的方法，包括以下步骤：