[发明专利]排水构造、电子元器件组件、和电气接线箱有效
申请号: | 201611087874.0 | 申请日: | 2016-12-01 |
公开(公告)号: | CN106852040B | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 今泉由仁 | 申请(专利权)人: | 矢崎总业株式会社 |
主分类号: | H05K5/02 | 分类号: | H05K5/02;H05K7/02;B60R16/023;H02G3/08 |
代理公司: | 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 | 代理人: | 吴立;邹轶鲛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 排水 构造 电子元器件 组件 电气 接线 | ||
1.一种排水构造,其特征在于,
所述排水构造包括:
组块,其在上部保持电子元器件;以及
罩,其具有与所述组块的侧壁部对置的内壁部,将所述电子元器件及所述组块从上方一体地覆盖,
所述侧壁部及所述内壁部的至少一个壁部包括:上侧对置面,其以水不能因毛细现象而上升的第一间隔与另一个壁部对置;以及隆起部,其从所述上侧对置面的下部向着所述另一个壁部隆起,
所述隆起部具有:下侧对置面,其以比所述第一间隔窄的第二间隔与所述另一个壁部对置;台阶面,其将所述下侧对置面和所述上侧对置面相连,且面向上方;以及通道部,其将从所述隆起部靠上方的空间和从所述隆起部靠下方的空间连通,且与所述台阶面相连,
所述台阶面向所述通道部倾斜,其中
所述第二间隔是水能够因毛细现象而上升的间隔。
2.如权利要求1所述的排水构造,
所述台阶面在所述侧壁部及所述内壁部的宽度方向延伸,且以在所述宽度方向随着接近所述通道部而越向下方的方式弯曲。
3.一种电子元器件组件,其特征在于,
所述电子元器件组件包括:
电子元器件;
组块,其在上部保持所述电子元器件;以及
罩,其具有与所述组块的侧壁部对置的内壁部,将所述电子元器件及所述组块从上方一体地覆盖,
所述侧壁部及所述内壁部的至少一个壁部包括:上侧对置面,其以水不能因毛细现象而上升的第一间隔与另一个壁部对置;以及隆起部,其从所述上侧对置面的下部向着所述另一个壁部隆起,
所述隆起部具有:下侧对置面,其以比所述第一间隔窄的第二间隔与所述另一个壁部对置;台阶面,其将所述下侧对置面和所述上侧对置面相连,且朝向上方;以及通道部,其将从所述隆起部靠上方的空间和从所述隆起部靠下方的空间连通,且与所述台阶面相连,
所述台阶面向所述通道部倾斜,其中
所述第二间隔是水能够因毛细现象而上升的间隔。
4.一种电气接线箱,其特征在于,
所述电气接线箱包括:
电子元器件;
组块,其在上部保持所述电子元器件;
罩,其具有与所述组块的侧壁部对置的内壁部,将所述电子元器件及所述组块从上方一体地覆盖;以及
框架,其将包括所述电子元器件、所述组块及所述罩的电子元器件组件保持在内部,
所述侧壁部及所述内壁部的至少一个壁部包括:上侧对置面,其以水不能因毛细现象而上升的第一间隔与另一个壁部对置;以及隆起部,其从所述上侧对置面的下部向着所述另一个壁部隆起,
所述隆起部具有:下侧对置面,其以比所述第一间隔窄的第二间隔与所述另一个壁部对置;台阶面,其将所述下侧对置面和所述上侧对置面相连,且面向上方;以及通道部,其将从所述隆起部靠上方的空间和从所述隆起部靠下方的空间连通,且与所述台阶面相连,
所述台阶面向所述通道部倾斜,其中
所述第二间隔是水能够因毛细现象而上升的间隔。
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