[发明专利]鳍式场效晶体管在审

专利信息
申请号: 201611087885.9 申请日: 2016-12-01
公开(公告)号: CN107134493A 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 吴政达;王廷君;林钰庭;何柏慷;萧柏铠 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 鳍式场效 晶体管
【权利要求书】:

1.一种鳍式场效晶体管,其特征在于,包括:

衬底,具有多个半导体鳍片;

多个隔离结构,位在所述衬底上,以隔离所述半导体鳍片,其中所述半导体鳍片突出于所述隔离结构;

多个阻挡层,位在所述隔离结构与所述半导体鳍片之间,其中所述阻挡层的材料与所述隔离结构的材料不同;以及

栅极叠层结构横跨过部分所述半导体鳍片、部分所述阻挡层以及部分所述隔离结构。

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