[发明专利]鳍式场效晶体管在审
申请号: | 201611087885.9 | 申请日: | 2016-12-01 |
公开(公告)号: | CN107134493A | 公开(公告)日: | 2017-09-05 |
发明(设计)人: | 吴政达;王廷君;林钰庭;何柏慷;萧柏铠 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司32243 | 代理人: | 顾伯兴 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 鳍式场效 晶体管 | ||
【权利要求书】:
1.一种鳍式场效晶体管,其特征在于,包括:
衬底,具有多个半导体鳍片;
多个隔离结构,位在所述衬底上,以隔离所述半导体鳍片,其中所述半导体鳍片突出于所述隔离结构;
多个阻挡层,位在所述隔离结构与所述半导体鳍片之间,其中所述阻挡层的材料与所述隔离结构的材料不同;以及
栅极叠层结构横跨过部分所述半导体鳍片、部分所述阻挡层以及部分所述隔离结构。
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