[发明专利]测试组件及其监控显示面板电性特性的方法、显示面板

说明书

本发明提供了一种用于监控显示面板电性特性的测试组件，设置于显示面板的非显示区，所述测试组件至少包括：浅孔测试元件、深孔测试元件及半接孔测试元件，所述浅孔测试元件用于获取浅孔中源漏极金属层与像素电极层的接触阻抗大小，所述深孔测试元件用于获取深孔中栅极金属层与像素电极层的接触阻抗大小，所述半接孔测试元件用于获取半接孔中像素电极层分别与源漏极金属层和栅极金属层的接触阻抗大小。本发明还提供了一种具有该测试组件的显示面板以及利用该测试组件监控显示面板的电性特性的方法本发明通过设置三种测试元件，能够实时监控像素电极层覆盖深孔、浅孔或半接孔后其的电阻大小，从而实时监控薄膜晶体管中过孔的缺陷，降低生产风险。

技术领域

本发明属于显示面板测试技术领域，具体地讲，涉及一种测试组件及其监控显示面板电性特性的方法、显示面板。

背景技术

目前，在显示面板的制程中，需要监控测试显示面板的显示区域(即AA(ActiveArea)区)中的电性特性，诸如薄膜晶体管的性能、栅极金属线的电阻、源漏极金属线的电阻(线电阻能够表征金属膜层厚度的均一性状况)以及像素电极层覆盖过孔后其的电阻等。

因此，需要在显示面板的非显示区域设置测试组件，以便对显示面板的显示区域中的电性特性进行测试监控。

发明内容

为了实现上述目的，本发明提供了一种测试组件及其监控显示面板电性特性的方法、显示面板。

根据本发明的一方面，提供了一种用于监控显示面板电性特性的测试组件，设置于所述显示面板的非显示区，所述测试组件至少包括：浅孔测试元件、深孔测试元件及半接孔测试元件，所述浅孔测试元件用于获取浅孔中源漏极金属层与像素电极层的接触阻抗大小，所述深孔测试元件用于获取深孔中栅极金属层与像素电极层的接触阻抗大小，所述半接孔测试元件用于获取半接孔中像素电极层分别与源漏极金属层和栅极金属层的接触阻抗大小。

进一步地，所述浅孔测试元件包括：栅极金属层，设置于基板上；栅极绝缘层，设置于所述基板和所述栅极金属层上；源漏极金属层，设置于所述栅极绝缘层上；钝化层，设置于所述源漏极金属层和所述栅极绝缘层上；浅孔，形成于所述钝化层中，所述浅孔将所述源漏极金属层暴露；像素电极层，设置于所述钝化层上，所述像素电极层通过所述浅孔与所述源漏极金属层接触。

进一步地，所述浅孔测试元件的数量至少为两个。

进一步地，所述深孔测试元件包括：栅极金属层，设置于基板上；栅极绝缘层，设置于所述基板和所述栅极金属层上；钝化层，设置于所述栅极绝缘层上；深孔，形成于所述钝化层和所述栅极绝缘层中，所述深孔将所述栅极金属层暴露；像素电极层，设置于所述钝化层上，所述像素电极层通过所述深孔与所述栅极金属层接触。

进一步地，所述深孔测试元件的数量至少为两个。

进一步地，所述半接孔测试元件包括：栅极金属层，设置于基板上；栅极绝缘层，设置于所述基板和所述栅极金属层上；有源层，设置于所述栅极绝缘层上；源漏极金属层，设置于所述有源层上；钝化层，设置于所述源漏极金属层和所述栅极绝缘层上；半接孔，形成于所述钝化层、所述源漏极金属层、所述有源层及所述栅极绝缘层中，所述半接孔将所述栅极金属层暴露；像素电极层，设置于所述钝化层上，所述像素电极层通过所述半接孔与所述源漏极金属层和所述栅极金属层接触。

进一步地，所述半接孔测试元件的数量至少为一个。

根据本发明的另一方面，还提供了一种显示面板，包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域中设置有上述的测试组件。