[发明专利]光学设备、具有光学设备的曝光装置及物品制造方法

权利要求书

1.一种使光学元件变形的光学设备，包括：

基准板，被配置成保持光学元件，

用于使光学元件变形的第一致动器单元，其中第一致动器单元包括附接到光学元件的第一磁性构件和被设置为以非接触方式面对第一磁性构件的第一线圈，其中第一线圈被附接到基准板；

用于使光学元件变形的第二致动器单元，其中第二致动器单元包括附接到光学元件的第二磁性构件和被设置为以非接触方式面对第二磁性构件的第二线圈，其中第二线圈被附接到基准板，其中第一致动器单元的驱动力大于第二致动器单元的驱动力，并且，与第二致动器单元相比，第一致动器单元更靠近基准板的保持光学元件的部分；以及

冷却单元，被配置成使第一线圈和第二线圈冷却，其中冷却单元包括：用于传递第一线圈的热的连接到第一线圈的第一热传递构件，和用于传递第二线圈的热的连接到第二线圈的第二热传递构件，并且其中第一热传递构件和第二热传递构件中的每个为棒状，并且第一热传递构件的直径大于第二热传递构件的直径，

其中，用于冷却第一线圈的冷却单元的冷却能力大于用于冷却第二线圈的冷却单元的冷却能力。

2.根据权利要求1所述的光学设备，其中，从第一线圈发出的热量大于从第二线圈发出的热量。

3.根据权利要求1所述的光学设备，还包括：

测量单元，被配置为测量第一线圈附近的温度；以及

控制器，被配置为控制用于冷却第一线圈的冷却单元的冷却能力，

其中，控制器基于测量单元的测量结果来控制冷却能力。

4.根据权利要求1所述的光学设备，其中冷却单元还包括：调整从第一线圈发散的热量的连接到第一热传递构件的第一热发散部，使从第二线圈传递的热均匀地发散的连接到第二热传递构件的第二热发散部，并且

光学设备的控制器基于对第一线圈附近的温度的测量结果来控制从第一热发散部发散的热量。

5.根据权利要求4所述的光学设备，其中，从第一线圈发出的热量大于从第二线圈发出的热量。

6.根据权利要求1所述的光学设备，其中，冷却单元还包括在其中具有流动通道的基准板，冷却剂在所述流动通道中流动。

7.根据权利要求1所述的光学设备，其中，光学元件是在其前表面上具有反射面的反射镜，并且所述光学设备被设置在反射镜的后表面上。

8.一种曝光装置，所述曝光装置包括根据权利要求1所述的光学设备。

9.一种制造制品的方法，所述方法包括以下步骤：

使用根据权利要求8所述的曝光装置使基板曝光到光；以及

使曝光的基板显影。