[发明专利]光学设备、具有光学设备的曝光装置及物品制造方法

说明书

公开了光学设备、具有光学设备的曝光装置及物品制造方法。提供了使用多个致动器单元使光学元件变形的光学设备。每个致动器单元包括附接到光学元件的磁性构件和被设置为以非接触方式面对磁性构件的线圈。光学设备包括被配置为保持光学元件并且其中设置有线圈的基准板以及被配置为使线圈冷却的冷却单元。冷却单元的冷却能力根据线圈被设置的位置而变化。

技术领域

本发明涉及光学设备、具有光学设备的曝光装置及物品制造方法。

背景技术

已知可以校正由光学系统的光学元件的制造误差、组装误差等导致的像差等的光学设备。光学设备包括如下的镜子：该反射镜的反射表面的形状可被改变并且被例如用在经由投影光学系统将光投影到物体的设备(诸如曝光装置或激光加工设备)中。通过将光学设备设置在投影光学系统的光路上并调整反射镜的形状可以校正像差等。反射镜的形状的调整由设置在反射镜的背面上的多个驱动单元来执行，但是由于从驱动单元发出的热而可能难以将反射镜的形状改变为期望的形状。因此，日本专利特开No.2007-316132公开了包括使驱动单元(电磁体单元)冷却的冷却单元的光学设备(反射设备)。

多个驱动单元由于反射镜的变形能力等而在发出的热量方面彼此不同。在日本专利特开No.2007-316132中公开的光学设备中，冷却单元的冷却能力被设定为与具有最大的发出的热量的驱动单元相对应，以便均匀地冷却所有的驱动单元。这导致冷却单元的尺寸增大和成本增加。

发明内容

本发明的目的是提供例如在光学系统的性能改进方面有利的光学设备。

根据本发明的一个方面，提供了使用多个致动器单元使光学元件变形的光学设备，每个致动器单元包括附接到光学元件的磁性构件和被设置为以非接触方式面对磁性构件的线圈，光学设备包括：基准板(base plate)，其被配置为保持光学元件，并且所述线圈被设置在所述基板中；以及冷却单元，被配置为使线圈冷却，其中，冷却单元的冷却能力根据线圈被设置的位置而变化。

本发明的另外特征根据参考附图对示例性实施例的以下描述将变得清楚。

附图说明

图1是例示出应用了根据第一实施例的光学设备的曝光装置的配置的示意图。

图2A是例示出光学设备的基本配置的截面图。

图2B是例示出反射镜背面上的磁体的布置的示意图。

图2C是例示出与冷却板耦合的热传递构件和冷却剂的流动通道的示意图。

图3是例示出根据第一实施例的光学设备的冷却单元的配置的示意图。

图4是例示出根据第二实施例的光学设备的冷却单元的配置的示意图。

图5是例示出根据第三实施例的光学设备的冷却单元的配置的示意图。

具体实施方式

在下文中，将参考附图等描述本发明的实施例。

(第一实施例)