[发明专利]可提高触摸屏玻屏AOI检测良品率的AOI算法/工艺方法

权利要求书

1.一种可提高触摸屏玻屏AOI检测良品率的AOI算法/工艺方法，其特征在于：将玻屏的检测区域划分为视窗区和非视窗区后，进行AOI的检测；

在后续的工艺前和后续的工艺完成后的AOI检测工序中，包括对各区域是否存在可容许脏污和不容许脏污的判断；

所述脏污为可被清除的污染物。

2.如权利要求1所述的一种可提高触摸屏玻屏AOI检测良品率的AOI算法/工艺方法，其特征在于：

后续的工艺前，所述可容许脏污为不影响后续的工艺或可被后续的工艺覆盖掉的污染物；

后续的工艺前，所述不容许脏污为影响后续的工艺的污染物或不能为后续的工艺覆盖掉的污染物；

后续的工艺完成后，所述可容许脏污为可被清除的污染物。

3.如权利要求1所述的一种可提高触摸屏玻屏AOI检测良品率的AOI算法/工艺方法，其特征在于：

所述将玻屏的检测区域划分为视窗区和非视窗区的步骤如下所示：

步骤一、根据玻屏拍摄的图像，获取图像中玻屏的高度和宽度的数值；

步骤二、调取玻屏设计图中玻屏及其视窗区域的各项设计数值；

步骤三、根据设计图中各区域的比例，计算出图像中视窗区的范围。

4.如权利要求1所述的一种可提高触摸屏玻屏AOI检测良品率的AOI算法/工艺方法，其特征在于：

所述后续的工艺前的AOI检测工序中：还包括是否存在不容许瑕疵的判断；

当视窗区存在，可清除的污染物时，判定为可容许脏污；

当视窗区存在，无法清除的污染物或无法修复的瑕疵时，判定为不容许瑕疵；

当非视窗区存在，无法清除的污染物或无法修复的瑕疵时，判定为不容许瑕疵；

当非视窗区存在，可清除的污染物时，根据脏污的种类和特征进行可容许脏污和不容许脏污的判断；

其中，当污染物的存在不影响后续的工艺或可被后续的工艺覆盖时，判定为可容许脏污；反之，则判定为不容许脏污。

5.如权利要求4所述的一种可提高触摸屏玻屏AOI检测良品率的AOI算法/工艺方法，其特征在于：

所述后续的工艺前的AOI检测工序的具体步骤如下所示：

步骤一、对触摸屏玻屏摄像；

步骤二、分析出图像内所有的瑕疵和污染物的位置、类型和特征；

步骤三、判断是否存在瑕疵或污染物；

当判断结果为“否”时，判定为良品，直接进行后续的工艺；

当判断结果为“是”时，进入步骤四的判定环节；

步骤四、判断是否存在不容许瑕疵；

当判断结果为“是”时，判定为不良品，结束程序；

当判断结果为“否”时，进入步骤五的判定环节；

步骤五、判断是否存在可容许脏污；

当判断结果为“否”时，判定为不良品，结束程序；

当判断结果为“是”时，直接进行后续的工艺或返回步骤三的工序。

6.如权利要求1所述的一种可提高触摸屏玻屏AOI检测良品率的AOI算法/工艺方法，其特征在于：

所述后续的工艺完成后的AOI检测工序中：还包括是否存在不容许瑕疵的判断；

当视窗区存在，可清除的污染物时，判定为可容许脏污；

当视窗区存在，无法清除的污染物或无法修复的瑕疵时，判定为不容许瑕疵；

当非视窗区存在，可清除的污染物时；

当非视窗区存在，无法清除的污染物或无法修复的瑕疵时，判定为不容许瑕疵。