[发明专利]COA基板的制作方法及COA基板

说明书

本发明提供一种COA基板的制作方法及COA基板，方法包括步骤：形成第一金属层；形成栅极；形成栅极绝缘层、有源层、欧姆接触层及源/漏极；形成绝缘层；形成色阻层；形成第一钝化层及第二钝化层，第一钝化层的成膜速率小于第二钝化层的成膜速率；形成不同厚度的第一光阻区域和第二光阻区域；移除未被第一光阻区域、第二光阻区域覆盖的第一钝化层及第二钝化层，暴露出漏极；保留部分第一光阻区域，去除第二光阻区域；移除未被部分第一光阻区域覆盖的第二钝化层，暴露出第一钝化层；沉积透明导电薄膜；移除部分第一光阻区域及沉积在其上的透明导电薄膜。本发明优点在于，将3mask技术应用于COA基板，缩短COA基板的制程，节约成本。

技术领域

本发明涉及液晶显示器领域，尤其涉及一种COA基板的制作方法及COA基板。

背景技术

LCDs(Liquid crystal displays)是一种被广泛应用的平板显示器，主要是通过液晶开关调制背光源光场强度来实现画面显示。传统的TFT制程一般采用五道光罩(5mask)，过多的光罩次数会增加制程成本，同时也会增大生产时间，使生产效率大大降低。为了达到缩减光罩数量的目的，很多公司纷纷发展四道光罩(4mask)技术，将AS层和S/D层用一道半灰阶光罩(half-tone HTM)或灰阶光罩(gray tone GTM)同时形成。HTM或GTM光罩制程可以使光阻得到两种不同的膜厚，这两种膜厚分别可以用来定义AS层和SD层的图案。为了进一步缩减光罩数量，ITO采用Lift-off制程可以将ITO层和PV层用一张光罩同时形成，从而使总光罩数量减小至三道(3mask)。

COA(Color Filteron Array)基板是将彩色滤色片制作在阵列基板上，请参照图1，图1为现有的COA基板的结构示意图，如图1所示，现有的COA基板包括衬底基板100、第一金属层101、栅极绝缘层102、有源层103、欧姆接触层104、第二金属层105、第一钝化层106；色阻层107、第二钝化层108、透明导电层109，透明导电层109包括像素电极，像素电极通过贯穿色阻层107和第二钝化层108的过孔110连接第二金属层105的漏极区。

现有的3mask技术没有办法应用于COA基板上，因为在色阻层107表面的第二钝化层108有很大可能性在形成过孔110时被刺穿，而导致色阻层107裸漏并直接接触后续的剥离液，光阻性能可能被恶化，从而影响面板的可靠性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是，提供一种COA基板的制作方法及COA基板，其能够克服现有技术的缺陷，将3mask技术应用于COA基板，缩短COA基板的制程，节约成本。