[发明专利]一种电容屏折射率匹配膜及其制备方法有效

申请号：	201611154785.3	申请日：	2016-12-14
公开（公告）号：	CN106589437B	公开（公告）日：	2020-01-14
发明（设计）人：	史良;徐倩倩;胡鑫;崔书海;何晶晶	申请（专利权）人：	合肥乐凯科技产业有限公司
主分类号：	C08J7/04	分类号：	C08J7/04;C09D175/04;C09D175/14;C09D167/06;C09D163/10;C09D161/06;C09D7/61;G06F3/044;C08L67/02
代理公司：	13108 石家庄冀科专利商标事务所有限公司	代理人：	李羡民;郭绍华
地址：	230041 安徽省合***	国省代码：	安徽;34
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摘要：
搜索关键词：	折射率匹配层预涂金属氧化物粒子折射率匹配电离放射高折射率电容屏涂料折射率差异光引发剂基材两侧耐划擦性蚀刻图案透明基体彩虹纹防粘连匹配膜透光性硬涂层折射率重量比基材制备应用
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【权利要求书】：

1.一种电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述电容屏折射率匹配膜包含基材(10)，在所述基材(10)两侧分別设有第一预涂底层(20)及第二预涂底层(30)；在所述第一预涂底层(20)上形成防粘连硬涂层(40)，在所述第二预涂底层(30)上形成折射率匹配层(50)；所述第二预涂底层(30)和所述折射率匹配层(50)的折射率差值的绝对值小于0.03；其中，所述折射率匹配层是由高折射率涂料经过涂布后得到，所述高折射率涂料至少包含电离放射物质、金属氧化物粒子和光引发剂，所述金属氧化物粒子与所述电离放射物质重量比为1：1.7-1：1.2；

所述折射率匹配层(50)的折射率为1.65-1.75；

所述折射率匹配层(50)的厚度为0.5μm-2.0μm；

所述的防粘连硬涂层含有二氧化硅粒子，所述二氧化硅粒子的粒径为0.1-0.2μm。

2.根据权利要求书1所述的电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物粒子的粒径为0.01μm-0.15μm。

3.根据权利要求书2所述的电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物粒子为氧化锆、氧化铈、五氧化二鈮、二氧化钛中的一种或几种。

4.根据权利要求3所述的电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述第二预涂底层(30)的折射率为1.62-1.72。

5.根据权利要求4所述的电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述防粘连硬涂层厚度为1.0μm-2.0μm。

6.一种制备如权利要求1-5任一项所述电容屏折射率匹配膜的方法，其特征在于，制备按以下步骤进行：

⑴、在基材的两侧分别形成第一预涂底层(20)和第二预涂底层(30)；

⑵、在所述第一预涂底层(20)上形成防粘连硬涂层(40)；

⑶、在所述第二预涂底层(30)上形成折射率匹配层(50)，所述第二预涂底层(30)和折射率匹配层(50)的折射率差值的绝对值小于0.03。

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