[发明专利]一种电容屏折射率匹配膜及其制备方法

说明书

本发明涉及一种电容屏用折射率匹配膜及其制备方法，所述匹配膜包含基材；在基材两侧分別设有第一预涂底层及第二预涂底层；在第一预涂底层上形成防粘连硬涂层；在第二预涂底层上形成折射率匹配层；其中，折射率匹配层是由高折射率涂料经过涂布后得到，高折射率涂料至少包含电离放射物质、金属氧化物粒子和光引发剂，金属氧化物粒子与电离放射物质重量比为1：2～1：1。第二预涂底层与折射率匹配层的折射率差值的绝对值为0.03以下。本发明通过设置折射率匹配层，并控制折射率匹配层与预涂底层折射率差异，使由其所得到的透明基体应用在电容屏时无蚀刻图案化痕迹和彩虹纹现象，并使该折射率匹配膜具有良好的透光性和耐划擦性。

技术领域

本发明涉及一种触摸屏技术领域，尤其涉及一种电容屏折射率匹配膜。

背景技术

目前市场上主流的触摸屏感应技术，包括电阻式、电容式、红外线式、超音波式等,由于消费性电子轻薄短小的要求，红外线式与超音波式主要用于中大尺寸等电子设备，携带性电子产品包括手机与平板计算机等，主要以电阻式与电容式为主。之前中小尺寸触摸屏主要以电阻式为主，主要的原因是电阻式的技术较为成熟、生产成本低，且多应用于量大、低单价之消费性电子产品,但随着以投射式电容式触摸屏的手机推出后，整个情势有很大的改变，到了现在，电容式触摸屏占有率已经大幅超越电阻式，成为中小尺寸携带式电子产品的主流触摸技术。

电容式触摸屏结构上来说，它包括了一个感应网格(sense array/sensingarrangement)，这个网格夹在两个玻璃保护层之间，通常最外层为防护层，它的定位原理是利用感应网格上的静电电场的变化来确定接触点的位置，当手指触摸屏幕的时候，手指和网格之间形成一个电容，控制器利用网格电气参数的变化量，来计算接触点的坐标位置。

电容式触摸屏不同于电阻式触摸屏，配合多点触控等功能，其上下铟锡氧化物电极线路是布满整个屏幕，为了避免加工过程中铟锡氧化物导电薄膜划伤，影响显示器的质量，铟锡氧化物导电薄膜在镀膜前(基膜主要是PET膜)，都会对基膜表面做加硬处理，由于铟锡氧化物(ITO)折射率高(约2.0)，一般加硬的硬涂膜其折射率低(约1.5)，则蚀刻后的ITO线路因为ITO层折射率与硬涂层折射率存在差异，各层界面干涉不一，造成蚀刻后的ITO线路在屏幕上容易显现，降低了触摸屏的可视性。

为了避免此现象，需在铟锡氧化物导电层与硬涂层之间，做一层折射率匹配层(Index Matching Layer)，藉由这层折射率匹配层叠加后，使得ITO蚀刻区与非蚀刻区域的色差接近，降低蚀刻线路的痕迹，达到消影的效果，另外，为了应对加工需求，折射率匹配层表面非常平坦，缺乏滑动性，在实际生产过程中容易发生表面粘附现象，长时间放置会产生膜面变形，须在基膜的另一面做一层防粘硬涂层，提高膜的收卷性能。传统的折射率匹配层以干法磁控溅镀高低折射率材料后，再镀上铟锡氧化物导电层，此种方法需要高真空设备，不仅设备投资较大，且生产速度慢，效率低，不仅不具生产规模，同时生产成本也较高。另有使用湿式涂布方式，先于透明塑料基膜(一般是PET)上涂布折射率匹配层，再溅镀低折材料与铟锡氧化物导电层，由于透明塑料基膜表面与折射率匹配层附着力差，一般会在透明塑料基膜表面预先涂布一层预涂底层(primer)，用以促进塑料基膜与高折射率涂料的附着力，但折射率匹配层与预涂底层的折射率差异过大时，通常会造成涂层表面彩虹纹严重，严重影响显示器画质，必须控制使用塑料基膜的预涂底层与折射率匹配层的折射率差，既满足折射率匹配层与塑料基膜的附着力，同时降低铟锡氧化物蚀刻后线路的色差，并提高触摸屏的显示画质。

发明内容

本发明的目的是克服已有技术之缺陷、提供一种电容屏折射率匹配膜，所述匹配膜应用在电容屏时无蚀刻图案化痕迹和彩虹纹现象，具有良好的透光性和耐划擦性。

本发明的另一个目的是提供这种匹配膜的制备方法。

本发明的目的是通过如下技术方案实现的：