[发明专利]基于微粒散射光近场照明的超分辨光学显微成像方法有效

专利信息
申请号: 201611167202.0 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN106707484B 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 凌进中;隋国荣;张大伟;贾星伟;严锦雯;高秀敏;沈奶连;庄松林 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G02B21/06 分类号: G02B21/06
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 散射光 样品表面 超分辨 成像 光学显微成像 空间分辨率 近场 近场扫描光学显微镜 暗场光学显微镜 暗场显微镜 空间超分辨 微米颗粒 衍射极限 照明光源 逐点扫描 显微镜 明场 扫描 图像
【说明书】:

发明涉及一种基于微粒散射光近场照明的超分辨光学显微成像方法,在现有暗场光学显微镜的基础上,利用微粒的散射光作为显微镜的照明光源,被散射光照明的区域可以获得超越衍射极限的空间分辨率,实现了空间超分辨成像。相比于普通的明场或暗场显微镜,本发明具有更高的空间分辨率。相比于近场扫描光学显微镜,通过微米颗粒在样品表面的扫描,可以获得整个样品表面的超分辨图像,本发明具有更快的成像速度,不需要在样品表面逐点扫描,每次成像范围可以达到10μm2

技术领域

本发明涉及一种光学显微成像技术,特别涉及一种基于微粒散射光近场照明的超分辨光学显微成像方法。

背景技术

远场光学受限于光学衍射极限,其成像系统的空间分辨率取决于入射波长和显微物镜的数值孔径,通常不会小于入射光波长的一半。为突破衍射极限,最常用的技术为近场扫描光学显微镜。该技术利用有孔或者无孔探针,位于样品表面上方数百纳米的范围内,收集样品表面倏逝波的强度,由此获取样品的轮廓信息。其分辨率理论上由探针尺寸决定,目前可以达到20至50纳米的空间分辨率。然而该技术最大的缺陷就是成像速度慢,通常需要几秒甚至几十秒来完成一幅图,因此无法应用于实时的成像测量。

在成像过程中,如果使用的显微物镜具有相同的数值孔径,明场和暗场显微镜的分辨率相同。由于采用了边缘光束照明技术,相比于明场显微镜,暗场显微镜抑制了背景光线的影响,具有更好的信噪比和图像对比度,更加适合物体边界和轮廓的观测。

发明内容

本发明是针对现在近场扫描光学显微镜成像速度受限的问题,提出了一种基于微粒散射光近场照明的超分辨光学显微成像方法,相比于逐点扫描的近场扫描光学显微镜,本方案具有更快的成像速度,同样可以获得超越衍射极限的空间分辨率。

本发明的技术方案为:一种基于微粒散射光近场照明的超分辨光学显微成像方法,包括如下步骤:

1)在现有的暗场光学显微镜的基础上增加三维移动设备,三维移动设备控制微米级的微粒移动;

2)将待测样品置于显微物镜的焦平面上;

3)将微粒移动接近待测样品表面,距离待测样品不超过1微米;

4)入射光从侧面入射,暗场光学显微镜对微粒周围被散射光照亮的区域进行成像,并完成图像采集;

5)利用三维移动设备控制微粒在样品表面逐步按次序移动,并控制微粒距离待测样品表面的间隔不超过1微米,每移动一步,用暗场光学显微镜采集一次图像,直至完成待测样品表面的图像采集;

6)将所有采集图像按次序拼接,实现待测样品表面超分辨图像。

所述微粒大小为1至50微米,用来散射显微镜的入射光。

所述三维移动设备包括三维位移平台和微粒支架,微粒支架一端为尖端结构,尖端结构端吸附或者粘贴微粒,另一端连接至三维位移平台,三维位移平台通过微粒支架控制微粒在三维空间内自由移动。

本发明的有益效果在于:本发明基于微粒散射光近场照明的超分辨光学显微成像方法,利用微粒的散射光作为显微镜的照明光源,实现了空间超分辨成像。相比于普通的明场或暗场显微镜,本发明具有更高的空间分辨率。相比于近场扫描光学显微镜,本发明具有更快的成像速度,不需要在样品表面逐点扫描,每次成像范围可以达到10 μm2

附图说明

图1为本发明基于微粒散射光近场照明的超分辨光学显微成像示意图;

图2为本发明成像样品的扫描电子显微镜图;

图3为本发明三种显微镜模式下对同一样品的成像效果比较图。

具体实施方式

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