[发明专利]铝靶材制作方法

说明书

一种铝靶材的制作方法，首先形成铝板，对所述铝板进行喷砂，将喷砂后的铝板制作成铝靶材。由于金属铝具有延展性强且硬度低的特点，采用滚压的抛光方式易将杂质压入金属内部，使其难以去除。喷砂方式是采用压缩空气为动力，以形成高速喷射束将喷料高速喷射到需要处理的工件表面，由于砂粒对工件表面的冲击和切削作用，使工件的表面获得一定的清洁度。因此采用喷砂方式可以有效避免抛光所带来的问题，从而提高形成铝靶材的洁净度。此外，相较于抛光方式，喷砂方式去除铝板表面氧化物及其杂质的速率较高，从而提高了生产效率。

技术领域

本发明涉及靶材制造领域，尤其涉及一种铝靶材制作方法。

背景技术

物理气相沉积(PVD，Physical Vapor Deposition)技术是半导体工业等多种行业的核心技术。它主要是利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体发生电离，利用电场加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。因此，所述靶材的纯度和洁净度至关重要。

一般制备靶材产品的方法包括：提供符合靶材性能的金属，例如高纯度铝(一般为99.999％)；对所述金属进行预热、挤压成型、粗加工和精加工等工艺，最后加工成尺寸合格的靶材产品。然而，所述挤压成型工艺、热处理等步骤容易使所述金属的洁净度降低，从而导致所形成的靶材性能下降。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种铝靶材的制作方法，以提高铝靶材的洁净度。

为解决上述问题，本发明提供一种铝靶材的制作方法，所述方法包括：形成铝板；对所述铝板进行喷砂；将喷砂后的铝板制作成铝靶材。

可选的，所述喷砂包括采用白刚玉做砂粒。

可选的，所述喷砂的喷砂压力在3千克/平方厘米～5千克/平方厘米的范围内。

可选的，在进行所述喷砂之后，所述制作方法还包括：将所述喷砂后的铝板置于异丙醇溶液或纯水中进行喷砂后清洗。

可选的，进行所述喷砂后清洗的过程中采用超声波振荡9分钟～11分钟。

可选的，将喷砂后的铝板制作成铝靶材的步骤中，所述制作方法还包括：将喷砂后的铝板制作成铝方片，对所述铝方片进行酸洗。

可选的，所述酸洗的步骤包括：将所述铝方片放入航空煤油中浸泡，进行第一清洗；第一清洗之后，将所述铝方片移至异丙醇溶液，进行第二清洗；第二清洗之后，通过酸液对所述铝方片进行第三清洗；通过纯水清洗所述铝方片，去除酸液残留；对所述铝方片进行真空干燥。

可选的，在进行所述酸洗的步骤中，将所述铝方片放置在滚筒中进行所述第一清洗、所述第二清洗及所述第三清洗；进行所述第一清洗及第二清洗的步骤中，所述滚筒保持静止；进行所述第三清洗的步骤中，使所述滚筒保持滚动。

可选的，在进行所述第一清洗、所述第二清洗及所述纯水清洗的步骤中，对所述铝方片进行超声波振荡。

可选的，在所述第一清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为10分钟～20分钟；在所述第二清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为5分钟～15分钟；在所述纯水清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为5分钟～10分钟。

可选的，所述酸液为硝酸与氢氟酸的混合酸，其中硝酸质量比为15％～20％，氢氟酸质量比为1％～3％；酸洗时间为3分钟～5分钟。

可选的，所述真空干燥的真空度为0.01帕斯卡～0.03帕斯卡，温度为60摄氏度～80摄氏度，干燥时间为50分钟～70分钟。

可选的，将酸洗后的铝方片放置于无尘室中进行清洗处理、干燥及包装。

可选的，所述清洗处理、干燥及包装的步骤包括：将所述铝方片置于异丙醇溶液中进行清洗处理；将清洗处理后的所述铝方片进行干燥；将干燥后的所述铝方片进行包装。